明暗场模式下刻蚀形貌显微定位测量不确定性研究.pdfVIP

摘要

近年来，基于显微视觉的测量技术以微纳米定位测量分辨力、多自由测量

和绝对式大量程测量等优势已逐渐发展为精密定位测量的重要解决方法。然而，

显微视觉的精密定位测量技术存在一些关键问题：显微成像机理不清晰且运动

测量影响机制不明确。因此，本文聚焦明暗场照明模式和光照强度对精密定位

测量不确定性的影响机制探究，针对刻蚀形貌建立同轴反射明暗场显微成像模

型，为视觉精密定位测量最优照明提供理论与实验支撑。

本文结合显微视觉成像系统模型与成像特点，选定USAF1951直线型刻蚀

形貌作为研究的被测对象，确认数字图像相关算法（DIC）作为测量算法。为了

提升DIC算法的鲁棒性和降低不确定性，本文探究了图像灰度分布对DIC算法

的影响机制，同时分析了影响刻蚀形貌显微成像灰度分布的照明因素。

本文针对明暗场照明模式对刻蚀形貌成像的影响机制进行建模与仿真。针

对同轴反射显微镜成像系统，本文建立了明暗场同轴反射显微成像的通用模型，

并在理论层面深入探讨了明场与暗场照明模式以及光照强度对刻蚀形貌显微成

像的影响。然后，通过有限时域差分方法（FDTD）和PSF模型，本文对两种照

明模式以及光照强度对刻蚀形貌图像灰度的影响进行了仿真模拟。

本文设计了明场微位移定位测量实验，以验证理论结论并揭示明场照明模

式和光照强度对刻蚀形貌显微灰度分布及DIC定位测量不确定度的影响机制。

实验结果表明，明场照明下，刻蚀形貌显微成像呈现为台阶型灰度分布。此外，

光强的不同产生了1.01nm-90.82nm的测量不确定度。深入分析，本文得出光强

是通过影响刻蚀形貌图像对比度进而影响定位测量不确定度的影响机制。

本文使用相同的刻蚀形貌样本，进行了暗场微位移定位测量实验。暗场照

明下，刻蚀形貌成像为尖峰型灰度分布。光强的不同仅引起了0.64nm-6.96nm的

不确定度，远小于明场照明，以此证明了对于刻蚀形貌而言，暗场照明更利于

定位测量。同时，实验揭示了在暗场照明下，光强通过影响图像整体对比度和

峰尖灰度类型，从而影响测量不确定度的机制。此外，基于刻蚀形貌尖峰型灰

度分布特点，本文提出一种基于高斯拟合的灰度定位方法（GFGP）。将该方法

用于10μm和100μm实验验证。实验结果表明，在最优光强下，GFGP较DIC

具有更小的定位测量不确定度，并且效率是DIC的1000多倍。

关键词：显微成像，数字图像相关，测量不确定度，明暗场照明，光照强度

μmand100μmsamples.Experimentalresultsshowthat,under

optimallightintensity,GFGPhassmallerpositioningmeasurementuncertainty

comparedtoDIC,anditsefficiencyisover1000timesthatofDIC.

Keywords:Microscopyimaging,digitalimagecorrelation,measurementuncertainty,

brightfieldanddarkfieldilluminationmodes,lightintensity

目录

摘要I

ABSTRACTII

第1章绪论1

1.1课题背景及研究的目的和意义1

1.2国内外研究现状2

1.2.1显微精密定位测量技术国内外研究现状2

1.2.2照明对显微精密定位测量影响研究现状7

1.3本文的主要研究内容12

第2章刻蚀形貌显微成像及其对数字图像相关算法影响研究14

2.1引言14

2.2显微视觉成像系统模型14

2.2.1显微视觉成像系统组成14

2.2.2被测物形貌分析16

2.3显微测量算法模型17

2.3.1典型显微测量算法概述17

2.3.2DIC算法原理18

2.4刻蚀形貌灰度对DIC算法不确定性影响20