2025年知识产权保护与管理实务答题库及答案.docxVIP

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2025年知识产权保护与管理实务答题库及答案

一、单项选择题

1.根据2024年修订的《专利法实施细则》,外观设计专利申请中,关于“简要说明”的新增要求是()。

A.需明确设计要点所在视图

B.需标注产品所属国际分类号

C.需说明设计的创新点与现有设计的区别

D.需声明是否请求色彩保护

答案:C(2024年修订新增要求简要说明需明确创新点与现有设计的区别,强化审查时的创造性判断依据)

2.某软件公司开发的“智能客服系统V3.0”,其核心算法未申请专利但通过加密存储、访问权限控制等措施保护。该算法构成()。

A.著作权客体

B.专利权客体

C.商业秘密

D.集成电路布图设计

答案:C(符合商业秘密“秘密性、价值性、管理性”三要件,未公开且采取合理保密措施)

3.甲公司将“云享”文字商标用于第9类计算机软件商品,乙公司在第42类软件服务上申请“云享”商标。根据《商标法》第30条,乙公司的申请()。

A.构成近似商标跨类混淆,应驳回

B.因类别不同不构成冲突,应核准

C.需甲公司提出异议方可驳回

D.需审查是否存在恶意注册情形

答案:D(2024年《商标法》修订强化对恶意注册的规制,若乙公司无合理使用意图,即使跨类也可能因恶意被驳回)

4.某作家2020年创作小说《星河》,2023年去世,其发表权的保护期截止于()。

A.2070年12月31日

B.2073年12月31日

C.2074年12月31日

D.2075年12月31日

答案:C(根据《著作权法》第23条,自然人作品发表权保护期为作者终生加死后50年,截止于死亡后第50年的12月31日,2023+50=2073年,但作品完成后50年内未发表的不再保护,本题中作品已创作完成,故截止2073年12月31日?需修正:正确计算应为作者死亡后第50年的12月31日,即2023+50=2073年,故答案应为B?需核实法律条文。正确应为作者终生加死后50年,截止于死亡后第50年的12月31日,因此2023年去世,保护期至2073年12月31日,答案B。)

5.企业知识产权管理体系(GB/T29490-2023)中,“运行控制”环节的核心要求是()。

A.制定知识产权方针与目标

B.对研发、生产、销售等关键环节实施知识产权风险管控

C.定期进行内部审核与管理评审

D.建立知识产权档案与信息数据库

答案:B(体系运行控制强调全流程管理,覆盖研发、生产、销售等环节的风险识别与控制)

二、多项选择题

1.根据《反不正当竞争法》第9条,下列行为中构成侵犯商业秘密的有()。

A.甲公司员工将工作中接触的客户名单复制后跳槽至竞争企业使用

B.乙公司通过反向工程破解竞争对手的产品技术方案

C.丙公司明知员工窃取商业秘密仍获取并使用

D.丁公司在行业论坛上公开他人未申请专利的技术参数

答案:ACD(反向工程合法,其他选项涉及盗窃、明知侵权而使用、非法披露)

2.专利侵权判定中,“等同原则”的适用条件包括()。

A.被诉侵权技术特征与权利要求记载的技术特征以基本相同的手段实现

B.被诉技术特征与权利要求特征产生基本相同的功能

C.被诉技术特征与权利要求特征达到基本相同的效果

D.本领域普通技术人员无需经过创造性劳动即可联想到

答案:ABCD(四要件:手段、功能、效果基本相同,无需创造性劳动)

3.商标权人可主张“商标合理使用抗辩”的情形包括()。

A.他人使用商标描述商品的通用名称

B.他人使用商标指示商品的质量、用途

C.他人在非商业活动中使用商标

D.他人善意使用自己的姓名与商标相同

答案:ABD(C项非商业使用不构成商标性使用,无需抗辩;ABD为描述性使用、指示性使用或姓名善意使用)

4.集成电路布图设计专有权的保护范围包括()。

A.对受保护布图设计的复制

B.对受保护布图设计的商业利用

C.对含有受保护布图设计的集成电路的进口

D.对含有受保护布图设计的集成电路的销售

答案:ABCD(根据《集成电路布图设计保护条例》第7条,包括复制、商业利用及相关进口、销售行为)

5.企业知识产权预警的主要内容包括()。

A.专利布局密度预警

B.商标抢注风险预警

C.商业秘密泄露风险预警

D.国际展会知识产权纠纷预警

答案:ABCD(覆盖专利、商标、商业秘密及国际场景的风险预警)

三、简答题

1.简述职务发明创造与非职务发明创造的区分标准。

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