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实验室钻石抛光师岗位招聘考试试卷及答案

实验室钻石抛光师岗位招聘考试试卷及答案

一、填空题（共10题，每题1分，共10分）

1.实验室钻石又称______钻石。

2.实验室钻石抛光常用磨料是______微粉。

3.抛光机主轴转速单位为______（r/min）。

4.抛光冷却介质常用______或冷却液。

5.实验室钻石晶体结构为______晶系。

6.抛光方向通常沿钻石______方向进行。

7.检测抛光缺陷常用______显微镜。

8.抛光需避免的缺陷是______和崩边。

9.抛光膏核心成分是金刚石微粉和______。

10.抛光核心质量要求是无划痕和______均匀。

二、单项选择题（共10题，每题2分，共20分）

1.最适合实验室钻石抛光的磨料是（）

A.氧化铝B.碳化硅C.金刚石微粉D.石英

2.抛光冷却的主要目的是（）

A.提高效率B.防止钻石过热变色C.减少磨料损耗D.清洁表面

3.常用抛光盘材质是（）

A.铸铁B.塑料C.木质D.橡胶

4.检测抛光光泽度的仪器是（）

A.目视B.分光光度计C.光泽度仪D.天平

5.合成钻石抛光正确步骤是（）

A.粗抛→精抛→细抛B.粗抛→细抛→精抛C.精抛→粗抛→细抛D.细抛→粗抛→精抛

6.磨料粒度选择原则是（）

A.先粗后细B.先细后粗C.粗细交替D.任意

7.不会导致抛光划痕的是（）

A.磨料颗粒过大B.冷却不足C.抛光压力过小D.磨料含杂质

8.检测抛光后纯度的仪器是（）

A.光学显微镜B.拉曼光谱仪C.硬度计D.天平

9.抛光机合理转速范围是（）

A.50-100r/minB.500-1000r/minC.2000-3000r/minD.5000-10000r/min

10.抛光质量要求不包括（）

A.无明显划痕B.光泽均匀C.重量损失≤0.1%D.无崩边

三、多项选择题（共10题，每题2分，共20分）

1.抛光关键影响因素包括（）

A.磨料粒度B.抛光压力C.冷却方式D.抛光盘材质

2.常用超硬抛光磨料有（）

A.金刚石微粉B.立方氮化硼C.氧化铝D.碳化硅

3.抛光后需检测的项目有（）

A.划痕B.光泽度C.晶体结构D.纯度

4.抛光冷却介质可选用（）

A.纯净水B.冷却液C.煤油D.酒精

5.属于抛光缺陷的是（）

A.崩边B.麻点C.变色D.划痕

6.合成钻石抛光步骤包括（）

A.装夹B.粗抛C.精抛D.清洗

7.抛光安全注意事项有（）

A.佩戴防护镜B.避免磨料飞溅C.防止设备漏电D.高温防护

8.抛光盘常用材质有（）

A.铸铁B.铜C.树脂D.陶瓷

9.导致抛光效率降低的情况是（）

A.磨料过细B.压力过小C.冷却不足D.转速过慢

10.检测光泽度的仪器有（）

A.光泽度仪B.分光光度计C.显微镜D.拉曼光谱仪

四、判断题（共10题，每题2分，共20分）

1.实验室钻石又称培育钻石，是人工合成的（）

2.金刚石微粉粒度越粗，抛光效率越高（）

3.抛光时必须持续冷却防止过热（）

4.合成钻石抛光难度比天然钻石低（）

5.抛光后可用酒精清洗钻石（）

6.抛光盘转速越快，质量越好（）

7.无划痕和光泽均匀是抛光核心要求（）

8.磨料混入杂质不影响抛光质量（）

9.晶向选择不影响抛光效果（）

10.抛光重量损失越小越好（）

五、简答题（共4题，每题5分，共20分）

1.简述实验室钻石抛光的基本流程。

2.抛光时冷却的主要作用是什么？

3.如何避免抛光过程中产生划痕？

4.简述抛光后检测的主要项目及方法。

六、讨论题（共2题，每题5分，共10分）

1.如何平衡实验室钻石抛光的效率与质量？

2.抛光后钻石出现局部麻点，分析原因及解决方法。

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答案部分

一、填空题答案

1.培育（或合成）

2.金刚石

3.转/分钟

4.纯净水

5.立方

6.晶面（或特定晶向）

7.光学

8.划痕

9.载体（或粘结剂）

10.光泽度

二、单项选择题答案

1.C2.B3.A4.C5.B6.A7.C8.B9.B10.C

三、多项选择题答案

1.ABCD2.AB3.ABD4.AB5.ABCD6.ABCD7.ABC8.ABCD9.ABD10.AB

四、判断题答案

1.√2.√3.√4.×5.√6.×7.√8.×9.×10.√

五、简答题答案

1.流程：①装夹：固定钻石于夹具；②粗抛：30-60μm金刚石微粉+铸铁盘，去粗糙层；③细抛：1-5μm磨料细化表面；④精抛：0.1-0.5μm磨料提升光泽；⑤清洗：纯净水/酒精去残留；⑥检测：显微镜查缺陷，光泽度仪测光泽。

2.冷却作用：①防过热：避免钻石变色、结构受损；②减磨耗：防止磨料高温氧化；③清表面：带走碎屑，避免划伤。

3.避免划痕：①选匹配粒度磨料；②清理设备杂质；③充分冷却；④压力均匀；⑤转速500-800r/min；⑥稳定抛光方向。

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