制造工艺仿真：掺杂仿真_（2）.掺杂工艺原理.docx

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掺杂工艺原理

掺杂工艺是半导体制造中非常重要的一步，通过在半导体材料中引入特定的杂质原子（掺杂剂），可以改变半导体的电学性能，从而实现各种半导体器件的功能。本节将详细介绍掺杂工艺的基本原理、掺杂方法、掺杂剂的选择及其对半导体性质的影响。

1.掺杂的基本概念

掺杂是指在纯净的半导体材料中引入一定数量的杂质原子，以改变其电学性能。这些杂质原子可以是施主杂质（n型掺杂剂）或受主杂质（p型掺杂剂）。

1.1施主杂质和受主杂质

施主杂质：施主杂质是指那些比半导体材料多一个价电子的元素。例如，在硅（Si）中引入磷（P）、砷（As）或锑（Sb）等元素。这些多余的价