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抛光技术试题及答案大全

一、单选题（每题1分，共15分）

1.抛光技术主要用于提高材料的（）。

A.强度B.硬度C.表面光洁度D.电阻率

【答案】C

【解析】抛光技术主要用于提高材料的表面光洁度。

2.下列哪种材料最适合使用机械抛光？（）

A.金属B.陶瓷C.玻璃D.塑料

【答案】A

【解析】金属通常更适合使用机械抛光。

3.抛光过程中，常用的磨料粒度从粗到细的顺序是（）。

A.50-100目→150目→300目B.300目→150目→50-100目C.100目→150目→300目D.150目→300目→100目

【答案】A

【解析】抛光过程中，磨料粒度通常从粗到细依次使用。

4.抛光过程中，冷却液的主要作用是（）。

A.提高抛光效率B.润滑和冷却C.增加磨料附着力D.去除表面氧化层

【答案】B

【解析】冷却液的主要作用是润滑和冷却。

5.抛光过程中，抛光粉的浓度一般控制在（）。

A.5%-10%B.10%-20%C.20%-30%D.30%-40%

【答案】B

【解析】抛光粉的浓度一般控制在10%-20%。

6.抛光过程中，抛光速度通常为（）。

A.100-200rpmB.200-300rpmC.300-400rpmD.400-500rpm

【答案】C

【解析】抛光速度通常控制在300-400rpm。

7.抛光过程中，抛光压力一般控制在（）。

A.0.1-0.5MPaB.0.5-1.0MPaC.1.0-1.5MPaD.1.5-2.0MPa

【答案】A

【解析】抛光压力一般控制在0.1-0.5MPa。

8.抛光过程中，抛光时间一般控制在（）。

A.5-10分钟B.10-20分钟C.20-30分钟D.30-40分钟

【答案】B

【解析】抛光时间一般控制在10-20分钟。

9.抛光过程中，抛光液的pH值一般控制在（）。

A.3-5B.5-7C.7-9D.9-11

【答案】C

【解析】抛光液的pH值一般控制在7-9。

10.抛光过程中，抛光温度一般控制在（）。

A.20-30℃B.30-40℃C.40-50℃D.50-60℃

【答案】B

【解析】抛光温度一般控制在30-40℃。

11.抛光过程中，抛光粉的选择主要依据（）。

A.材料的硬度B.抛光的目的C.抛光的速度D.抛光的时间

【答案】A

【解析】抛光粉的选择主要依据材料的硬度。

12.抛光过程中，抛光液的粘度一般控制在（）。

A.1-2mPa·sB.2-3mPa·sC.3-4mPa·sD.4-5mPa·s

【答案】B

【解析】抛光液的粘度一般控制在2-3mPa·s。

13.抛光过程中，抛光速度过快可能导致（）。

A.抛光效率提高B.表面烧伤C.磨料脱落D.抛光液飞溅

【答案】B

【解析】抛光速度过快可能导致表面烧伤。

14.抛光过程中，抛光压力过小可能导致（）。

A.抛光效率提高B.表面粗糙度增加C.磨料脱落D.抛光液飞溅

【答案】B

【解析】抛光压力过小可能导致表面粗糙度增加。

15.抛光过程中，抛光液温度过高可能导致（）。

A.抛光效率提高B.表面烧伤C.磨料脱落D.抛光液飞溅

【答案】B

【解析】抛光液温度过高可能导致表面烧伤。

二、多选题（每题3分，共15分）

1.抛光技术可以提高材料的（）。

A.美观性B.亲水性C.耐腐蚀性D.电绝缘性E.反射率

【答案】A、C、E

【解析】抛光技术可以提高材料的美观性、耐腐蚀性和反射率。

2.抛光过程中，常用的磨料有（）。

A.氧化铝B.氧化硅C.氧化锆D.氧化镁E.氧化锌

【答案】A、B、C

【解析】抛光过程中，常用的磨料有氧化铝、氧化硅和氧化锆。

3.抛光过程中，抛光液的作用有（）。

A.润滑B.冷却C.去除氧化物D.增加磨料附着力E.提高抛光效率

【答案】A、B、C

【解析】抛光过程中，抛光液的作用有润滑、冷却和去除氧化物。

4.抛光过程中，抛光速度的影响因素有（）。

A.材料的硬度B.抛光的目的C.抛光粉的种类D.抛光液的粘度E.抛光压力

【答案】A、B、C、D、E

【解析】抛光过程中，抛光速度的影响因素有材料的硬度、抛光的目的、抛光粉的种类、抛光液的粘度和抛光压力。

5.抛光过程中，抛光压力的影响因素有（）。

A.材料的硬度B.抛光的目的C.抛光粉的种类D.抛光液的粘度E.抛光速度

【答案】A、B、C、D、E

【解析】抛光过程中，抛光压力的影响因素有材料的硬度、抛光的目的、抛光粉的种类、抛光液的粘度和抛光速度。

三、填空题（每题2分，共10分）

1.抛光技术是一种通过去除材料表面微小凹凸，提高材料表面光洁度的工艺。

2.抛光过程中，常用的磨料粒度从粗到细依次使用。

3.抛光过程中，抛光液的pH值一般控制在7-9。

4.抛光过程中，抛光温度一般控制在30-40℃。

5.抛光过程中，抛光速度一般控制在300-400rpm。

四