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;专题四非金属及其化合物;*;第一节.无机非金属材料的主角——硅
;;碳、硅单质的存在与性质—形态、物理性质及用途;碳、硅单质的存在与性质—化学性质(还原性);硅的工业制法;1.判断
(1)C、Si在自然界中均存在游离态()
(2)晶体硅熔点高、硬度大,所以可用于制作半导体材料。()
(3)常温下硅既不能与强酸反应也不能与强碱反应。()
(4)加热到一定温度,硅能与氧气、氯气等非金属反应。()
(5)晶体硅可用作光导纤维材料。()
(6)高温下用焦炭还原SiO2制取粗硅。()
;2.选择
(1)下列关于硅的说法中,不正确的是()
A.硅是人类将太阳能转换为电能的常用材料
B.硅的导电性能介于金属和绝缘体之间,是良好的半导体材料
C.硅的化学性质不活泼,常温下不与任何物质反应
D.加热到一定温度时,硅能与氯气、氧气等非金属反应
(2)下列关于碳、硅的叙述正确的是()
A.碳、硅都是ⅣA族元素,都在自然界中以化合态形式存在
B.二氧化碳、二氧化硅的物理性质相似
C.二氧化碳、二氧化硅都是酸性氧化物,能与NaOH溶液反应生成相应的盐
D.高纯度的二氧化硅用于制造半导体材料;(3)某短周期非金属元素的原子核外最外层电子数是次外层电子数的一半,该元素()
A.在自然界中只以化合态的形式存在
B.单质常用作半导体材料和光导纤维
C.最高价氧化物不与酸反应
D.气态氢化物比甲烷稳定;3.回答问题
制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原
法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
焦炭HCl精馏H2
石英砂粗硅SiHCl3(粗)SiHCl3(纯)高纯硅
高温573℃以上1357K
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式_______________________________。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水???烈反应生成
H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式
_______________________;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起
的后果是_________________。
用石英砂和焦炭制备粗硅的反应中,焦炭的作用是什么?
;碳、硅的氧化物;1.判断
(1)SiO2是酸性氧化物,不能与任何酸反应()
(2)SiO2与CO2是同族元素的氧化物,化学性质相同()
(3)CO2通入硅酸钠溶液中,有白色沉淀生成,说明酸性H2CO3H2SiO3()
(5)利用SiO2与水反应制备H2SiO3()
(6)玻璃容器可长期盛放各种酸。()
(7)CO2溶于水生成碳酸,SiO2也能溶于水并生成硅酸。()
(8)SiO2溶于水显酸性,所以SiO2属于酸性氧化物。()
(9)CO和CO2是碳的两种氧化物,二者均是温室气体。()
(10)CO2不支持燃烧是相对的。()
(11)氢氟酸刻蚀玻璃的过程不涉及化学变化。();2.选择题
(1).下列说法正确的是()
A.在粗硅的制取中发生2C+SiO22CO↑+Si,硅被还原,所以碳的还原性强于硅的还原性
B.盛放NaOH溶液时,使用带玻璃塞的磨口瓶
C.用SiO2制取硅酸,应先使二氧化硅与氢氧化钠溶液反应,然后再通入CO2
D.由Na2CO3+SiO2Na2SiO3+CO2↑可知,硅酸的酸性强于碳酸
;(2)下列叙述正确的是()
A.因为Na2CO3+SiO2Na2SiO3+CO2↑,所以硅酸的酸性比碳酸强
B.碳和硅都是ⅣA族的元素,所以二氧化碳和二氧化硅的物理性质相似
C.因为高温时二氧化硅能与碳酸钠反应放出二氧化碳,所以硅酸的酸性比碳酸强
D.二氧化硅和二氧化碳都是酸性氧化物,但二氧化硅不能和水反应
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