CN116114389B 氮氧化物的选择性增加的微波等离子体装置和利用该装置制备含有氮氧化物的水的方法 （韩国核融合能源研究院）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN116114389B(45)授权公告日2025.07.04

(21)申请号202180045262.8

(22)申请日2021.05.25

(65)同一申请的已公布的文献号

申请公布号CN116114389A

(43)申请公布日2023.05.12

(30)优先权数据

10-2020-00786772020.06.26KR

(85)PCT国际申请进入国家阶段日

2022.12.23

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/KR2021/0064822021.05.25

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2021/261779KO2021.12.30

(73)专利权人韩国核融合能源研究院地址韩国大田市

(72)发明人洪镛澈千世珉梁乾祐李羲宰

(74)专利代理机构北京柏杉松知识产权代理事

务所(普通合伙)11413专利代理师任天日刘继富

(51)Int.CI.

C01B21/20(2006.01)

HO5H1/46(2006.01)

(56)对比文件

WO2020115473A1,2020.06.11

KR20150139274A,2015.12.11

CN207307576U,2018.05.04

US2003000823A1,2003.01.02

审查员段晓雅

权利要求书2页说明书7页附图5页

(54)发明名称

氮氧化物的选择性增加的微波等离子体装置和利用该装置制备含有氮氧化物的水的方法

(57)摘要

CN116114389B微波等离子体装置包括：中空管，其里面是空的，微波照射到所述中空管；旋流气体注入口，其位于中空管的下端部，旋流气体(swirlgas)注入所述旋流气体注入口；轴向气体注入口，其贯穿中空管的下端部，轴向气体(axialgas)注入所述轴向气体注入口；以及旋流气体隔膜，其位于中空管内部，并且位于注入旋流气体的附近，沿中空管的长度方向延伸，其中，旋流气体隔膜与中空管之间形成有间隙(g),而且在中空管

CN116114389B

CN116114389B权利要求书1/2页

2

1.一种制备氮氧化物的微波等离子体装置，包括：

中空管，其里面是空的；

旋流气体注入口，其位于所述中空管的下端部，旋流气体通过所述旋流气体注入口注入所述中空管内部；

轴向气体注入口，其贯穿所述中空管的下端部，轴向气体通过所述轴向气体注入口向所述中空管的上端部的方向注入所述中空管内部；以及

旋流气体隔膜，其位于所述中空管内部，并且位于在中空管下部的注入所述旋流气体的附近，从所述中空管的下端部起沿所述中空管的长度方向延伸，

所述旋流气体隔膜与所述中空管之间形成有间隙g,注入到所述旋流气体注入口的旋流气体通过所述间隙g流入所述中空管内部，通过微波照射到所述中空管，在所述中空管的内部产生将所述旋流气体和所述轴向气体作为源气体的等离子体，在所述中空管的内部生成氮氧化物，

所述间隙g与所述旋流气体注入口的直径D之比满足0.1≤g/D≤1.5。

2.根据权利要求1所述的制备氮氧化物的微波等离子体装置，其中，所述旋流气体为氧气或氮气。

3.根据权利要求2所述的制备氮氧化物的微波等离子体装置，其中，

当所述旋流气体为氧气时，所述轴向气体为氮气，当所述旋流气体为氮气时，所述轴向气体为氧气。

4.一种用于制备氮氧化物的方法，包括：

将旋流气体注入中空管的步骤；

注入的旋流气体通过形成在旋流气体隔膜与所述中空管之间的间隙g流入所述中空管内部的步骤，其中，所述旋流气体隔膜从所述中空管的下端部起沿所述中空管的长度方向延伸；

将轴向气体向所述中空管的上端部的方向注入所述中空管的步骤；

向所述中空管照射微波的步骤；以及

在所述中空管的内部产生将所述旋流气体和所述轴向气体作为源气体的等离子体和生成氮氧化物气体的步骤，

其中，间隙g与旋流气体注入口的直径D之比满足0.1≤g/D≤1.5。

5.一种用于制备含有氮氧化物的水的方法，包括：

将旋流气体注入中空管的步骤；

注入的旋流气体通过形成在旋流气体隔膜与所述中空管之间的间隙g流入所述中空管内部的步骤，其中，所述旋流气体隔膜从所述中空管的下端部起沿所述中空管的长度方向延伸；

将轴向气体向所述中空管的上端部的方向注入所述中空管的步骤