CN115165317B 一种获取光学计量系统入射光的光斑信息、测量焦面及拟合波段的方法 （上海精测半导体技术有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN115165317B(45)授权公告日2025.07.08

(21)申请号202210763618.8

(22)申请日2022.06.29

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN115165317A

(43)申请公布日2022.10.11

(56)对比文件

CN105513985A,2016.04.20CN109959502A,2019.07.02审查员刘继英

(73)专利权人上海精测半导体技术有限公司地址201700上海市青浦区徐泾镇双浜路

269、299号1幢1、3层

(72)发明人刘珈汐刘亮梁任成

(74)专利代理机构武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙)42242

专利代理师万畅

(51)Int.CI.

GO1M11/02(2006.01)

权利要求书3页说明书10页附图4页

(54)发明名称

一种获取光学计量系统入射光的光斑信息、测量焦面及拟合波段的方法

(57)摘要

CN115165317B本发明涉及一种获取光学计量系统入射光的光斑信息、测量焦面及拟合波段的方法，包括：获取标准测试样件，标准测试样件上设置有包括特征图形结构的待测区域，入射光投射至标准测试样件上形成光斑；使标准测试样件沿至少一个方向进行移动，使得光斑扫描待测区域，并在移动过程中多次采集光斑的反射光以获取多组与特征图形结构相关的测量参数的测量值；基于待测区域的尺寸和可靠测试区间确定光斑的尺寸；通过统一标准的测试方式与评价方式得到光斑尺寸与位置，不再依赖光斑图像的人为主观评价，数据来源于量测系统的测量结果，客观可靠；

CN115165317B

寸。

获取标准测试样件，标准测试样件上设置有包括特

获取标准测试样件，标准测试样件上设置有包括特

征图形结构的待测区域，入射光投射至标准测试样

件上形成光斑

使标准测试样件沿至少一个方向进行移动，使得光

斑扫描待测区域，并在移动过程中多次采集光斑的

反射光以获取多组与特征图形结构相关的测量参数

的测量值

基于多组测量值确定测量参数的可靠测试区间

基于待测区域的尺寸和可靠测试区间确定光斑的尺寸

步骤1

步骤2

步骤3

步骤4

CN115165317B权利要求书1/3页

2

1.一种获取光学计量系统入射光的光斑信息的方法，其特征在于，包括：

步骤1,获取标准测试样件，所述标准测试样件上设置有包括特征图形结构的待测区域，所述入射光投射至所述标准测试样件上形成光斑，所述待测区域的尺寸大于所述光斑的尺寸；

步骤2,使所述标准测试样件沿至少一个方向进行移动，使得所述光斑扫描所述待测区域，并在移动过程中多次采集所述光斑的反射光以获取多组与所述特征图形结构相关的测量参数的测量值，其中，第一次采集和最后一次采集时，至少一部分所述光斑位于所述待测区域外，并且在第一次采集和最后一次采集之间，至少有一次采集时所述光斑全部位于所述待测区域内；

步骤3,基于多组所述测量值确定所述测量参数的可靠测试区间；

步骤4,基于所述待测区域的尺寸和所述可靠测试区间确定所述光斑的尺寸。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述特征图形结构包括光栅结构；

所述移动为多次等步距移动或者连续移动，并且每次采集所述光斑的反射光之间时间间隔相同；

所述多次采集还包括：在每次采集前，对所述光栅结构进行对焦。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述沿至少一个方向进行移动包括：沿两个相互正交的方向分别进行移动。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述测量参数包括所述特征图形结构的形貌参数、所述反射光的光强、所述反射光的偏振幅值比以及所述反射光的相位比中至少一种。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述步骤3还包括：

基于多组所述特征图形结构的形貌参数测量值的可信度评价参数确定所述可靠测试区间，所述可信度评价参数包括所述特征图形结构的形貌参数测量值的均方差、均方根差或所述测量值的拟合优度。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取光学计量系统入射光的光斑信息的方法还包括：

获取数据评估基准值，获取所述数据评估基准值包括所述入射光的光斑全部位于所述待测区域的中心区域时获取所述测量值或者所述特征图形结构的形貌参数测量值的可信度评价参数的值，所述中心区域为以所述待测区域中心位置为圆心，阈值长