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(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号CN115103707B(45)授权公告日2025.07.04
(21)申请号202280002025.8
(22)申请日2022.03.31
(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN115103707A
(43)申请公布日2022.09.23
(85)PCT国际申请进入国家阶段日
2022.08.19
(86)PCT国际申请的申请数据
PCT/CN2022/0846162022.03.31
(87)PCT国际申请的公布数据
WO2023/184420ZH2023.10.05
(73)专利权人西安大医集团股份有限公司
地址710018陕西省西安市经济技术开发
区凤城十二路66号首创国际城商务中心28号楼1单元3层10301室
(72)发明人郭召
(74)专利代理机构北京中博世达专利商标代理
有限公司11274专利代理师申健
(51)Int.CI.
A61N5/10(2006.01)
(56)对比文件
CN217366928U,2022.09.06
CN109011208A,2018.12.18
CN108379748A,2018.08.10
CN109432613A,2019.03.08
审查员蒋健君
权利要求书2页说明书9页附图6页
(54)发明名称
放射治疗头、设备、方法、控制装置及非易失性存储介质
(57)摘要
CN115103707B本申请实施例公开了一种放射治疗头、设备、方法、控制装置及非易失性存储介质,涉及医疗器械技术领域。该放射治疗头包括安装座,以及设置在所述安装座上的射线产生装置和初级准直器,所述初级准直器位于所述射线产生装置出射X射线的一侧,所述安装座上还转动设置有转盘,所述转盘上设置有聚焦准直组件和适形准直组件,其中,所述聚焦准直组件和所述适形准直组件被配置可分别与所述初级准直器相对应,
CN115103707B
100
170
CN115103707B权利要求书1/2页
2
1.一种放射治疗头,其特征在于,包括安装座,以及设置在所述安装座上的一个射线产生装置和初级准直器,其中:
所述射线产生装置被配置产生一个点光源X射线;
所述初级准直器位于所述射线产生装置出射X射线的一侧,所述初级准直器与所述安装座转动连接,所述初级准直器上设置有适形准直通道和聚焦准直通道,所述初级准直器转动时,所述射线产生装置出射的X射线穿过所述适形准直通道或所述聚焦准直通道;
所述安装座上还转动设置有转盘,所述转盘上设置有聚焦准直组件和适形准直组件,其中,所述聚焦准直组件和所述适形准直组件被配置可分别与所述初级准直器相对应,以形成聚焦射野或适形射野;
所述转盘上与所述适形准直组件的移动方向垂直的方向还设置有导轨,所述聚焦准直组件与所述导轨滑动连接;
在形成聚焦射野时,所述初级准直器相对所述安装座转动,以将所述聚焦准直通道与所述射线产生装置出射的X射线相对应,将所述适形准直组件移动至作用区之外,使X射线经所述聚焦准直通道射出;在形成适形射野时,所述初级准直器相对所述安装座转动,以将所述适形准直通道与射线产生装置出射的X射线相对应,将所述聚焦准直组件移动至作用区组外,不遮挡适形准直组件中叶片的正常运动,使X射线经所述适形准直通道射出。
2.根据权利要求1所述的放射治疗头,其特征在于,所述聚焦准直组件和所述适形准直组件在所述转盘上呈交错式设置,且所述聚焦准直组件和所述适形准直组件能够相互避让,以使所述聚焦准直组件或所述适形准直组件分别与所述初级准直器相对应。
3.根据权利要求1所述的放射治疗头,其特征在于,所述聚焦准直组件包括第一聚焦准直器和第二聚焦准直器,所述第一聚焦准直器包括第一聚焦准直孔,所述第二聚焦准直器包括与所述第一聚焦准直孔孔径不同的第二聚焦准直孔,所述第一聚焦准直器和所述第二聚焦准直器被配置沿所述导轨移动,以分别将所述第一聚焦准直孔或所述第二聚焦准直孔与所述初级准直器对应。
4.根据权利要求3所述的放射治疗头,其特征在于,所述第一聚焦准直孔为多个且孔径不同,所述第二聚焦、准直孔为多个且孔径不同。
5.根据权利要求3所述的放射治疗头,其特征在于,所述第一聚焦准直器和所述第二聚焦准直器分别位于所述导轨端部时,所述适形准直组件被配置与所述初级准直器相对应。
6.根据权利要求2所述
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