CN114675490B 有机膜形成材料、图案形成方法以及化合物及聚合物 (信越化学工业株式会社).docxVIP

CN114675490B 有机膜形成材料、图案形成方法以及化合物及聚合物 (信越化学工业株式会社).docx

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(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN114675490B(45)授权公告日2025.07.11

(21)申请号202111588128.0

(22)申请日2021.12.23

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN114675490A

(43)申请公布日2022.06.28

(30)优先权数据

2020-2169662020.12.25JP

(73)专利权人信越化学工业株式会社地址日本东京都

(72)发明人郡大佑橘诚一郎野中汐里

(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277

专利代理师刘新宇李茂家

(51)Int.CI.

GO3F7/004(2006.01)

C08G8/20(2006.01)

CO7D311/96(2006.01)

(56)对比文件

US2019094695A1,2019.03.28审查员叶志浩

权利要求书8页说明书48页附图1页

(续)

(54)发明名称

有机膜形成材料、图案形成方法以及化合物及聚合物

(57)摘要

本发明涉及有机膜形成材料、图案形成方法以及化合物及聚合物。本发明的课题为提供有机膜形成材料和适于有机膜形成材料的化合物及聚合物。该课题提供一种有机膜形成材料,其含有:(A)下式(1)表示的化合物及/或具有下式(4)表示的重复单元的聚合物及(B)有机溶剂;

该式(1)中,AR1、

(1)

AR2、AR3、AR4、AR5及AR6为苯环或萘环,R1为下式(2)表示的基团中任一者。n表示1~2的整数,W为

碳数2~50的2价有机基团;

CNR1=三--OH--0-CH?

CN

114675490B

(4)

AR2、AR3、AR4、AR5、AR6、R1、n及W

该式(4)中,AR1、

和前述相同;R2、

R3为氢原子或碳数1~20的有机基团,且R2与R3也可通过在分子内键结来形成环状有机基团。

(A)

(B)

(C)

(D)

(E)

5a(F)

[转续页]

CN114675490B2/2页

2

[接上页]

(56)对比文件

Hosseinzadeh等.Convenientsynthesis

ofnaphthopyransusingmontmorilloniteK-

10asheterogeneouscatalyst.JournalofChemicalSciences.2014,第126卷(第4期),1081-1089.

CN114675490B权利要求书1/8页

3

1.一种有机膜形成材料,其特征为含有:

(A)下述通式(1)表示的化合物及/或具有下述通式(4)表示的重复单元的聚合物,及

(B)有机溶剂;

(1)AR

(1)

AR3AR4

W

AR6

n

AR2

R1-AR5n

AR1

该通式(1)中,AR1、AR2、AR3、AR4、AR5及AR6为苯环或荼环,R1为下式(2)表示的基团中任一者;n表示1~2的整数,W为下述[化17]所示的结构中的任一者;

[化17]

4

CN114675490B权利要求书2/8页

虚线表示原子键;

(4)

该通式(4)中,AR1、AR2、AR3、AR4、AR5、AR6、R1、n及W和前述相同;R2、R3与它们键合的碳原子一起形成下述[化26]中的基团,

[化26]

虚线表示原子键。

CN114675490B权利要求书3/8页

2.根据权利要求1所述的有机膜形成材料,其中,该化合物为下述通式(3)表示的化合物;

(3)R1

(3)

R1

AR5AR6

n

该通式(3)中的AR5、AR6、R1及n和前述相同。

3.根据权利要求1或2所述的有机膜形成材料,其中,

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