CN113554744B 一种大体积散射样本快速扫描三维成像方法及装置 （清华大学）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN113554744B(45)授权公告日2025.01.10

(21)申请号202110773712.7

(22)申请日2021.07.08

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN113554744A

(43)申请公布日2021.10.26

(73)专利权人清华大学

地址100084北京市海淀区清华园

(72)发明人戴琼海陈一帆熊博张安科吴嘉敏

(74)专利代理机构北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201

专利代理师张梦瑶

(51)Int.CI.

GO6T17/00(2006.01)

(56)对比文件

CN111402127A,2020.07.10审查员张露文

权利要求书2页说明书6页附图3页

(54)发明名称

对样本进行成像，获得样本在不同方向的光场图像将光场图像重排得到不同角度下的子孔径图像通过计算仿真得到光场成像系统的点扩散函数根据点扩散函数，并基于子孔径图像，使用相差估

对样本进行成像，获得样本在不同方向的光场图像

将光场图像重排得到不同角度下的子孔径图像

通过计算仿真得到光场成像系统的点扩散函数

根据点扩散函数，并基于子孔径图像，使用相差估计同步重建算法进行三维重建

(57)摘要

CN113554744B本申请提出一种大体积散射样本快速扫描三维成像方法和装置，其中，方法包括：对样本进行成像，获得样本在不同方向的光场图像，将光场图像重排得到不同角度下的子孔径图像，通过计算仿真得到光场成像系统的点扩散函数，根据点扩散函数，并基于子孔径图像，使用相差估计同步重建算法进行三维重建。本发明通过采用上述方法，可以快速的对于大体积样本进行原位快速三维成像，通过多角度的像差估计可以获取样

CN113554744B

CN113554744B权利要求书1/2页

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1.一种大体积散射样本快速扫描三维成像方法，其特征在于，包括：

对样本进行成像，获得所述样本在不同方向的光场图像；

将所述光场图像重排得到不同角度下的子孔径图像；

通过计算仿真得到光场成像系统的点扩散函数；

根据所述点扩散函数，并基于所述子孔径图像，使用相差估计同步重建算法进行三维

重建；

基于交替方向乘子法对于相位矩阵与三维重建结果进行交替优化；

对于所述相位矩阵与强度矩阵进行全零初始化；

对所述强度矩阵和所述相位矩阵进行优化，其中，

选择旋转成像角度，通过阶次累加得到相差矫正矩阵，所述相差矫正矩阵将所述强度矩阵进行正向投影，并结合所述相差矫正矩阵进行矫正得到前向投影结果，计算所述前向投影结果与当前子孔径真值的误差矩阵得到计算结果，基于所述计算结果分别对于所述强度矩阵和所述相位矩阵执行梯度下降算法，进行优化。

2.根据权利要求1所述的大体积散射样本快速扫描三维成像方法，其特征在于，所述对样本进行成像，获得所述样本在不同方向的光场图像，包括：

从不同角度对所述样本进行成像，每次旋转一定角度间隔以多角度成像，并在每次旋转完成后进行成像。

3.根据权利要求1所述的大体积散射样本快速扫描三维成像方法，其特征在于，所述通过计算仿真得到光场成像系统的点扩散函数，包括：

模拟光路正向传播过程，计算出复数光场，通过相位调制，经过所述光路正向传播过程得到光强分布，以得到各个深度对应的子孔径点扩散函数。

4.根据权利要求1所述的大体积散射样本快速扫描三维成像方法，其特征在于，所述对强度矩阵进行优化，还包括：

结合所述相差矫正矩阵进行背向投影，将所述误差矩阵投影到体积上，以对所述强度矩阵进行优化。

5.根据权利要求4所述的大体积散射样本快速扫描三维成像方法，其特征在于，顺序或乱序使用所有旋转角度的子孔径对于所述强度矩阵和所述相位矩阵进行优化。

6.根据权利要求5所述的大体积散射样本快速扫描三维成像方法，其特征在于，重复对所述强度矩阵以及对所述相位矩阵进行优化，直到二者收敛，所述强度矩阵为经过相位矫正的所述三维重建结果。

7.一种大体积散射样本快速扫描三维成像装置，包括：

成像模块，用于对样本进行成像，获得所述样本在不同方向的光场图像；

重排模块，用于将所述光场图像重排得到不同角度下的子孔径图像；

计算模块，用于通过计算仿真得到光场成像系统的点扩散函数；

重建模块，用于根据所述点扩散函数，并基于所述子孔径图像，使用相差估计同步重建算法进行三维重建；

所述重建