电流镜设计原理及共源共栅结构优化分析.pdfVIP

5电流源和电流镜

基本电流镜

电流源的设计是基于对基准电流的“”

两个都工作在饱和区且具有相等栅源电压的相同晶体管传输相同的

电流（忽略沟道长度调制效应）

基本电流镜

按比例电流（忽略沟道长度调制效应）

得到

该电路可以精确地电流而不受工艺和温度的

影响；Iout与IREF的比值由器件尺寸的比率决定。

共源共栅电流镜

沟道长度调制效应使得电流镜像产生极大误差

因此

共源共栅电流镜

了抑制沟道长度调制的影响，可以采用共源共栅电流源。共源共栅结构

以使底部晶体管免受VP变化的影响。

确定共源共栅电流源的偏置电压

Vb，采用共源共栅电流镜结构。

目标是确保V=V。选择

YX

(W/L)/(W/L)=(W/L)/(W/L),

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则V=V