CN113474990B 输送装置及检体分析系统、检体预处理装置及输送方法 （株式会社日立高新技术）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN113474990B(45)授权公告日2025.01.10

(21)申请号202080016282.8

(22)申请日2020.01.14

(65)同一申请的已公布的文献号

申请公布号CN113474990A

(43)申请公布日2021.10.01

(30)优先权数据

2019-0422332019.03.08JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2021.08.24

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2020/0009072020.01.14

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2020/183890JA2020.09.17

(73)专利权人株式会社日立高新技术地址日本东京都

(72)发明人青山康明星辽佑小林启之金子悟玉腰武司渡边洋

神原克宏鬼泽邦昭

(74)专利代理机构北京银龙知识产权代理有限公司11243

专利代理师曾贤伟范胜杰

(51)Int.CI.

HO2P25/064(2006.01)

B65G54/02(2006.01)

G01N35/04(2006.01)

(56)对比文件

CN106483313A,2017.03.08

CN108768129A,2018.11.06

审查员蒋映

权利要求书2页说明书15页附图22页

(54)发明名称

输送装置及检体分析系统、检体预处理装置及输送方法

(57)摘要

CN113474990B65输送装置(1)具备：设置于检体架(111)侧的永磁铁(10);具有由第二磁性体构成的铁芯(22)、以及卷绕于铁芯(22)的外周侧的绕组(21)的磁极(25);向磁极(25)的绕组(21)供给电流的驱动电路(50);以及控制从驱动电路(50)向绕组(21)供给的电流值的电流指令运算部(55),电流指令运算部(55)使向绕组(21)供给的电流变化。由此，提供与以往相比输送性能较高的输送装

CN113474990B

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CN113474990B权利要求书1/2页

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1.一种输送装置，其特征在于，

所述输送装置具备：

第一磁性体，其被设置在被输送体侧；

2个以上的磁路，其具有由第二磁性体构成的铁芯和卷绕于所述铁芯的外周侧的绕组；驱动电路，其向所述磁路的所述绕组供给电流；

运算部，其控制从所述驱动电路向所述绕组供给的电流值；

被输送体检测部，其检测所述第一磁性体的位置或速度，

所述运算部使供给至沿着所述被输送体的行进方向相邻的所述绕组的电流的值按正负的值而不同，并且基于由所述被输送体检测部检测出的所述第一磁性体的位置或速度信息而使向所述绕组供给的电流变化，在将2个以上的所述铁芯的间距设为Pc时，所述间距的前1/2Pc的区间中的电流值比该1/2Pc之后的电流值大。

2.根据权利要求1所述的输送装置，其特征在于，

所述输送装置还具备检测所述被输送体的重量的重量检测部，

所述运算部基于由所述重量检测部检测出的所述被输送体的重量信息而使向所述绕组供给的电流变化。

3.根据权利要求1所述的输送装置，其特征在于，

所述运算部使由沿着所述被输送体的行进方向相邻的所述绕组产生的磁通量的朝向为相反方向。

4.根据权利要求1所述的输送装置，其特征在于，

在所述输送装置具备2个以上的所述磁路，

设置有所述第一磁性体的被输送体为至少2个以上的情况下，

在将所述被输送体的数量设为N时，所述运算部使连续的N个以上的所述绕组的电流值全部不同。

5.根据权利要求4所述的输送装置，其特征在于，

所述运算部使连续的N个以上的所述绕组的电流值朝向所述被输送体的行进方向增加或减少。

6.根据权利要求1所述的输送装置，其特征在于，

在将2个以上的所述铁芯的间距设为Pc时，在满足2个以上的所述第一磁性体的间隔Pm为2Pc≤Pm的情况下的关系的情况下，所述第一磁性体的极性为相同方向。

7.根据权利要求1所述的输送装置，其特征在于，

所述第一磁性体是永磁铁。

8.一种检体分析系统，其特征在于，

所述检体分析系统具备权利要求1所述的输送装置。

9.一种检体预处理装置，其特征在于，

所述检体预处理装置具备权利要求1所述的输送装置。

10.一种被输送体的输送方法，其是输送具有磁性体的被输送体的方法，其特征在于，

所述输送方法具有：输送步骤，对具有由第二磁性体构成的铁芯和卷绕于所