化学机械抛光液32.docVIP

化学机械抛光液

原料配比

原料

配比（质量份）

1#

2#

3#

4#

5#

6#

7#

8#

研

磨

剂

硅溶胶

1.5

5

－

－

1.5

1

－

－

氧化铝

－

－

1

－

－

－

－

－

氧化铈

－

－

－

0.2

－

－

－

－

气相二氧化硅

－

－

―

－

－

－

0.8

1

氧

化

剂

硝酸铁

0.1

－

－

－

0.2

0.2

0.1

0.1

双氧水

－

5

3

2

－

－

－

－

单过硫酸氢钾复合物

－

－

－

－

5

5

5

3.5

稳定剂

丙二酸

－

－

－

－

0.18

0.18

0.09

0.09

PESA

0.05

0.5

0.3

0.1

0.2

0.2

0.1

0.2

去离子水

余量

余量

余量

余量

余量

余量

余量

余量

制备方法将各组分在去离子水中混合均匀，用氢氧化钾或稀硝酸调到所需的PH值，即可制得化学机械抛光液。

原料配伍本品各组分质量份配比范围为：研磨剂0.2~5、氧化剂0.1~5、稳定剂0~0.18、聚环氧琥珀酸（PESA）和/或聚环氧琥珀酸的盐0.05~0.5、去离子水余量。

所述研磨剂为硅溶胶、气相二氧化硅、氧化铝、氧化铈中的一种或多种。

所述氧化剂为硝酸铁、过氧化物和/或硝酸铁和过氧化物的组合物。

所述过氧化物为双氧水或单过硫酸氢钾复合物。

所述聚环氧琥珀酸（PESA）和/或聚环氧琥珀酸的盐的分子量为400~1500。

所述抛光液的PH值为1.5~5。

产品应用本品主要用作化学机械抛光液。

产品特性在化学机械抛光液中加入了聚环氧琥珀酸（PESA）和/或聚环氧琥珀酸的盐，提升了抛光液产品在多方面的表现性能。

参考文献中国专利公告CN－200910198376.7