CN114628405A 显示基板及其制作方法、以及显示装置 （京东方科技集团股份有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN114628405A(43)申请公布日2022.06.14

(21)申请号202111450707.9

(22)申请日2021.11.30

H01L27/32(2006.01)

(71)申请人京东方科技集团股份有限公司

地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人成都京东方光电科技有限公司

(72)发明人郭晓亮石全张微周瑞

赵吾阳董中飞张毅杨远江

宋亮秦成杰王本莲龙跃

黄炜赟

(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所

11105

专利代理师焦玉恒孙琦

(51)Int.CI.

HO1L27/12(2006.01)

HO1L51/56(2006.01)

权利要求书4页说明书51页附图28页

(54)发明名称

显示基板及其制作方法、以及显示装置

(57)摘要

CN114628405A一种显示基板及其制作方法、以及显示装置。该显示基板包括子像素以及绝缘层。子像素包括有机发光元件，有机发光元件包括发光功能层。显示基板还包括遮挡部，遮挡部的材料与绝缘层的材料不同，且绝缘栅的厚度大于遮挡部的厚度；绝缘层包括凹槽，凹槽和遮挡部均位于相邻子像素之间，遮挡部位于凹槽边缘且在排列方向上向凹槽内突出以形成向凹槽开口内突出的突出部；或者，遮挡部侧表面具有第一坡度角，凹槽侧表面具有第二坡度角，第一坡度角和第二坡度角至少之一大于60度，发光功能层包括的多个膜层的至少一层在凹槽处断开。通过在显示基板中相邻子像素之间设置凹槽以及向凹槽内突出

CN114628405A

CN114628405A权利要求书1/4页

2

1.一种显示基板，包括：

衬底基板，至少包括第一显示区域；

多个子像素，位于所述衬底基板上的第一显示区域，至少部分子像素中的每个子像素包括发光元件，所述发光元件包括发光功能层以及沿垂直于所述衬底基板的方向位于所述发光功能层两侧的第一电极和第二电极，所述第一电极位于所述发光功能层与所述衬底基板之间，所述发光功能层包括多个膜层；

绝缘层，位于所述衬底基板上，

其中，所述显示基板还包括遮挡部，位于所述绝缘层远离所述衬底基板的一侧，且所述遮挡部在所述衬底基板上的正投影与所述绝缘层在所述衬底基板上的正投影有交叠；

所述绝缘层包括多个凹槽，所述凹槽和所述遮挡部至少部分位于相邻子像素之间，所述遮挡部与所述绝缘层远离所述衬底基板一侧表面中构成所述凹槽边缘的部分在所述衬底基板上的投影有交叠，且向所述凹槽开口内突出以形成突出部，或者，所述遮挡部的至少部分侧表面与平行于所述绝缘层远离所述衬底基板一侧表面的平面的坡度角为第一坡度角，所述凹槽的至少部分侧表面与平行于所述绝缘层远离所述衬底基板一侧表面的平面的坡度角为第二坡度角，所述第一坡度角与所述第二坡度角的至少之一大于60度；

所述绝缘层的材料与所述遮挡部的材料不同，且沿垂直于所述衬底基板的方向，所述绝缘层与所述遮挡部在衬底基板上投影交叠的至少部分的厚度大于所述遮挡部的厚度；

所述发光功能层的多个膜层中的至少一层在所述凹槽处断开。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述子像素中，所述发光功能层包括层叠设置的第一发光层、电荷产生层以及第二发光层，所述电荷产生层位于所述第一发光层与所述第二发光层之间，所述电荷产生层在所述遮挡部的至少部分边缘处断开。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述第二电极在所述遮挡部的至少部分边缘处断开。

4.根据权利要求1-3任一项所述的显示基板，其中，所述绝缘层位于所述第一电极与所述衬底基板之间。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其中，所述绝缘层包括有机层。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其中，所述凹槽位于所述有机层中，所述凹槽的深度与所述有机层平坦部分的厚度比为0.1～1。

7.根据权利要求4所述的显示基板，其中，所述第一电极包括至少一层膜层，所述遮挡部与所述第一电极的至少一层膜层同层设置。

8.根据权利要求4所述的显示基板，还包括：

像素限定图案，位于所述绝缘层远离所述衬底基板的一侧，至少位于所述第一显示区域的所述像素限定图案包括多个第一开口，一个所述子像素对应至少一个第一开口，所述子像素的发光元件至少部分位于所述子像素对应的第一开口中，且所述第一开口被配置为暴露所述第一电极，

其中，所述像素限定图案还包括多个第二开口，所述第二开口暴露所