CN115268223A 微流控芯片的阳模光刻方法、系统、装置及芯片制作方法 （广东工贸职业技术学院）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN115268223A(43)申请公布日2022.11.01

(21)申请号202210830043.7

(22)申请日2022.07.15

(71)申请人广东工贸职业技术学院

地址510510广东省广州市天河区广州大

道北963号

(72)发明人陈启明宋显文傅仁轩甘俊旗徐勇军

(74)专利代理机构广州嘉权专利商标事务所有限公司44205

专利代理师黎扬鹏

(51)Int.CI.

GO3F7/20(2006.01)

权利要求书2页说明书6页附图2页

(54)发明名称

微流控芯片的阳模光刻方法、系统、装置及芯片制作方法

(57)摘要

CN115268223A本发明公开一种微流控芯片的阳模光刻方法、系统、装置及芯片制作方法，涉及芯片制造技术领域。本申请通过所需的微流控芯片的微通道深度确定总曝光量，然后根据光刻装置较低的光照强度和单次曝光时间确定单次曝光量，根据溶解出微通道深度所需的总曝光量和单次曝光量可以确定曝光次数。基于该曝光次数，控制光刻装置以较低的光照强度对基板上需要曝光的同一位置进行重复曝光，得到微流控芯片的阳模，利用曝光强度控制且重复曝光的