CN114361373A Oled显示面板的制作方法及oled显示面板 （合肥维信诺科技有限公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(43)申请公

(10)申请公布号CN114361373A布日2022.04.15

(21)申请号202111511581.1

(22)申请日2021.12.06

(71)申请人合肥维信诺科技有限公司

地址230001安徽省合肥市新站区魏武路

与新蚌埠路交口西南角

(72)发明人王盼盼

(74)专利代理机构广东君龙律师事务所44470代理人丁建春

(51)Int.CI.

HO1L51/56(2006.01)

HO1L27/32(2006.01)

H01L51/50(2006.01)

权利要求书1页说明书7页附图2页

(54)发明名称

CN114361373A(57)摘要本申请提供一种OLED显示面板的制作方法

CN114361373A

(57)摘要

本申请提供一种OLED显示面板的制作方法及OLED显示面板。该OLED显示面板的制作方法包括：提供基板；在所述基板上形成像素定义层；所述像素定义层具有像素区域和非像素区域；在所述像素定义层背离所述基板的一侧表面放置掩膜，并通过所述掩膜露出所述像素定义层的非像素区域；在所述像素定义层的非像素区域引入有机溶剂；在所述像素定义层背离所述基板的一侧表面形成共通层。该OLED显示面板的制作方法能够减弱载流子的横向移动，降低相邻像素出现相互串扰问题的概率。

提供基板S1

在基板上形成像素定义层S2

在像素定义层背离基板的一侧表面放置掩膜,并通过掩膜露出像素定义层的非像素区域

S4

在像素定义层的非像素区域引入有机溶剂

在像素定义层背离基板的一侧表面形成共通层

S3

S?

CN114361373A权利要求书1/1页

2

1.一种OLED显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在所述基板上形成像素定义层；所述像素定义层具有像素区域和非像素区域；

在所述像素定义层背离所述基板的一侧表面放置掩膜，并通过所述掩膜露出所述像素定义层的非像素区域；

在所述像素定义层的非像素区域引入有机溶剂；

在所述像素定义层背离所述基板的一侧表面形成共通层。

2.根据权利要求1所述的OLED显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述像素定义层背离所述基板的一侧表面放置掩膜，并通过所述掩膜露出所述像素定义层的非像素区域的步骤具体包括：

通过所述掩膜仅露出所述像素定义层的非像素区域。

3.根据权利要求1所述的OLED显示面板的制作方法，所述在所述像素定义层的非像素区域引入有机溶剂的步骤具体包括：

使所述有机溶剂挥发至所述像素定义层的非像素区域。

4.根据权利要求3所述的OLED显示面板的制作方法，其特征在于，所述使所述有机溶剂挥发至所述像素定义层的非像素区域的步骤包括：

对所述有机溶剂进行加热。

5.根据权利要求4所述的OLED显示面板的制作方法，其特征在于，所述有机溶剂的沸点为30-120℃,对所述有机溶剂进行加热的温度为30-50℃。

6.根据权利要求5所述的OLED显示面板的制作方法，其特征在于，所述有机溶剂包括丙酮、氯仿、二氯甲烷以及甲苯中的一种或多种。

7.根据权利要求1所述的OLED显示面板的制作方法，其特征在于，进一步包括：

在所述共通层的任意一层或多层发光功能层背离所述基板的一侧表面放置掩膜，并通过所述掩膜露出所述共通层的任意一层或多层发光功能层对应所述像素定义层的非像素区域的部分；

对所述共通层的任意一层或多层发光功能层对应所述像素定义层的非像素区域的部分进行粗糙化处理。

8.根据权利要求7所述的OLED显示面板的制作方法，其特征在于，在所述共通层的每层发光功能层背离所述基板的一侧表面放置掩膜，并通过所述掩膜露出所述共通层的每层发光功能层对应所述像素定义层的非像素区域的部分；

对所述共通层的每层发光功能层对应所述像素定义层的非像素区域的部分进行粗糙化处理。

9.根据权利要求7或8所述的OLED显示面板的制作方法，其特征在于，采用有机溶剂、激光或等离子体的方式对所述共通层的任意一层或多层发光功能层对应所述像素定义层的非像素区域的部分进行粗糙化处理。

10.一种OLED显示面板，其特征在于，采用如权利要求1-9任一项所述的显示面板的制作方法所制得。

CN114361373A