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2025年半导体光刻技术十年发展趋势报告.docx

2025年半导体光刻技术十年发展趋势报告.docx

    2025年半导体光刻技术十年发展趋势报告参考模板

    一、2025年半导体光刻技术十年发展趋势报告

    1.1技术发展背景

    1.2技术发展趋势

    1.2.1极紫外光（EUV）光刻技术将成为主流

    1.2.2多重曝光技术将得到广泛应用

    1.2.3新型光源和光刻材料的研究将取得突破

    1.2.4人工智能与光刻技术深度融合

    1.2.5国际合作与竞争将加剧

    1.3技术发展挑战

    1.3.1EUV光刻机成本高昂

    1.3.2多重曝光技术难度大

    1.3.3新型光源和光刻材料研发周期长

    1.3.4人工智能技术应用于光刻领域尚处于起步阶段

    二、光刻技

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