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- 2026-02-06 发布于重庆
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN112744018A
(43)申请公布日2021.05.04
(21)申请号202110028149.0
(22)申请日2021.01.08
(71)申请人天津科技大学
地址300457天津市滨海新区泰达开发区
13大街29号
(72)发明人刘琳琳徐守超孙光瑞徐涛
(74)专利代理机构天津协众信创知识产权代理事务所(普通合伙)12230
代理人房海萍
(51)Int.CI.
B44C5/02(2006.01)
权利要求书1页说明书3页
(54)发明名称
一种黍画布的制作方法
(57)摘要
CN112744018A本发明提供了一种森画布的制作方法,包括以下步骤:1)打格楷、2)调灰胎、3)上灰胎、4)打磨找平、5)将森画布正反面喷漆、6)森画布正面搽漆三遍。本发明剥离了背板密度板,将传统“打格裆”工艺和大森灰胎相结合,只保留了棉布坯布灰胎大森而成型,森画布上的森画在收藏过程中保存完好不易变形;漆画布可单独作画,有画框和独立背板衬板支撑的森画布更适于黍画绘、填、镶嵌、打磨等创作工艺,创作效率高;森画布与背板衬板是分离式独立结构,质轻,森画布漆
CN112744018A
CN112744018A权利要求书1/1页
2
1.一种森画布的制作方法,其特征在于:包括以下步骤:、
1)打格:用橡胶刮板将均匀的面粉浆糊在干净平整的棉布胚布上摊平,晒干;
2)调灰胎:瓦灰、石膏粉、水调成膏状,再加入文物修复涂料和面粉的混合物搅拌均匀,按质量份数计,瓦灰5~15份、石膏粉1~3份、文物修复涂料2~5份、面粉5~15份、水1~5份。
3)上灰胎:将灰胎在格上均匀刮平,晒干硬化;
4)打磨找平:用砂纸打磨平整;
5)喷漆:在黍画布反正面喷涂文物修复涂料,晒干;
6)搽漆:调稀生漆,泰画布正面搽生漆,面纱蘸漆均匀擦拭、略停二、三分钟,然后用干净面纱搽净,阴房阴干,2~4天内搽漆三遍。
2.根据权利要求1所述的黍画布的制作方法,其特征在于:在步骤4)后面还包括如下步骤:衬板钉框:森画布背板衬板钉到画框上,反正面喷涂文物修复漆料,将森画布装在画框架上。
3.根据权利要求2所述的黍画布的制作方法,其特征在于:衬板钉框后需检查泰画布灰胎面的平整光滑度,黍画布要求绷紧在画框架上。
4.根据权利要求1所述的森画布的制作方法,其特征在于:步骤1)中,棉布坯布需要干净平整没有接线头,面粉浆糊均匀没有面疙瘩,橡胶刮板软硬适中。
5.根据权利要求1所述的黍画布的制作方法,其特征在于:所述文物修复涂料包括以下组分:钛白粉、碳酸钙、苯丙乳液、水。
6.根据权利要求1所述的森画布的制作方法,其特征在于:步骤2)中按质量份数计,瓦灰10份、石膏粉1份、文物修复涂料3份、面粉10份、水1份。
7.根据权利要求1所述的泰画布的制作方法,其特征在于:步骤4)中采用1500-2000号砂纸进行打磨。
8.根据权利要求1所述的黍画布的制作方法,其特征在于:步骤6)中的搽漆工艺需要三天三遍。
CN112744018A说明书1/3页
3
一种泰画布的制作方法
技术领域
[0001]本发明涉及画布技术领域,具体涉及一种泰画布的制作方法。
背景技术
[0002]现有泰画都是在画板上制作,还没有能代替漆画板的通用泰画布,泰画板的制作过程中需要高密度板板材,在密度板上涂大漆瓦灰浆并将棉布坯布粘贴在高密度板上。在森画板上制作的森画存在以下缺点:在森画长期的收藏过程中,可能会出现密度板“鼓包”、“扭曲变形”而影响画面美感与收藏;森画板表面的棉布坯布、灰胎、大森与板材是粘和在一起的整体结构,黍画板的平均密度较大,在森画板上创作的泰画必须用木箱严密包装防护来避免物流损伤,安全性差,物流成本与布展成本较高。
发明内容
[0003]本发明要解决的技术问题是提供一种黍画布的制作方法,能够得到收藏安全性好、物流安全性好、创作效率高的黍画布。
[0004]基于上述问题,本发明提出的技术方案是提供一种泰画布的制作方法,包括以下步骤:
[0005]1)打格:用橡胶刮板将均匀的面粉浆糊在干净平整的棉布胚布上
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