CN114114373A 闪烁体面板及其制作方法、放射线图像检测装置 （京东方科技集团股份有限公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(43)申请公

(10)申请公布号CN114114373A布日2022.03.01

(21)申请号202111386031.1

(22)申请日2021.11.22

(71)申请人京东方科技集团股份有限公司

地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人北京京东方传感技术有限公司

(72)发明人杨凯杨祎凡侯学成

(74)专利代理机构北京律智知识产权代理有限公司11438

代理人王辉阚梓瑄

(51)Int.CI.

G01T1/202(2006.01)

权利要求书2页说明书8页附图2页

(54)发明名称

闪烁体面板及其制作方法、放射线图像检测

装置

(57)摘要

CN114114373A本公开提供了一种闪烁体面板及其制作方法、放射线图像检测装置，属于闪烁体面板技术领域。该闪烁体面板包括基底，包括感光区；闪烁体层，设于基底的一侧并以柱状晶体生长，闪烁体层位于感光区，闪烁体层包括第一部和位于第一部外围的第二部，第二部的柱状晶体的高度小于第一部的柱状晶体的高度；侧围坝，设在闪烁体层的外围；透明阻水层，设于闪烁体层远离基底的一侧；反射封装膜，包括粘结层和反射膜层，反射封装膜通过粘结层贴附于透明阻水层远离基底的表面和侧围坝；其中，粘结层在基底所在平面上的正投影与第一部在基底所在平面上的正投影不重叠，且粘结层在基底所在平面上的正

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CN114114373A权利要求书1/2页

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1.一种闪烁体面板，其特征在于，包括：

基底，包括感光区；

闪烁体层，设于所述基底的一侧并以柱状晶体生长，所述闪烁体层位于所述感光区，所述闪烁体层包括第一部和位于所述第一部外围的第二部，所述第二部的柱状晶体的高度小于所述第一部的柱状晶体的高度；

侧围坝，设在所述闪烁体层的外围；

透明阻水层，设于所述闪烁体层远离所述基底的一侧，所述透明阻水层在所述基底上的正投影与所述闪烁体层在所述基底上的正投影至少部分重叠；

反射封装膜，包括粘结层和反射膜层，所述反射封装膜通过所述粘结层贴附于所述透明阻水层远离所述基底的表面和所述侧围坝；

其中，所述粘结层在所述基底所在平面上的正投影与所述第一部在所述基底所在平面上的正投影不重叠，且所述粘结层在所述基底所在平面上的正投影与所述第二部在所述基底所在平面上的正投影至少部分重叠。

2.根据权利要求1所述的闪烁体面板，其特征在于，所述反射膜层包括反射区和位于所述反射区外围的粘结区，所述粘结层贴附于所述粘结区，所述反射区与所述第一部正对设置；

所述粘结层贴附于所述侧围坝的侧壁和所述透明阻水层远离所述基底且对应于所述第二部的表面。

3.根据权利要求1所述的闪烁体面板，其特征在于，在垂直于所述基底方向上，所述侧围坝的高度为b,所述第一部的高度为a,a/2≤b≤a。

4.根据权利要求1所述的闪烁体面板，其特征在于，所述侧围坝在所述基底所在平面上的正投影部分区域位于所述基底内，部分区域位于所述基底的外围。

5.根据权利要求4所述的闪烁体面板，其特征在于，在平行于所述基底方向上，所述侧围坝远离所述闪烁体层的一端与所述基底的外边缘之间的距离为c,0c≤0.5mm。

6.根据权利要求1所述的闪烁体面板，其特征在于，所述闪烁体层在所述基底上的正投影的外边缘与所述基底的外边缘之间的距离为d,0d≤2mm。

7.根据权利要求1所述的闪烁体面板，其特征在于，所述侧围坝的材料包括固化胶。

8.根据权利要求1所述的闪烁体面板，其特征在于，所述透明阻水层的材料包括派瑞林或聚脲。

9.根据权利要求1所述的闪烁体面板，其特征在于，所述闪烁体层的厚度为10-600μm,所述透明阻水层的厚度为5-20μm。

10.一种闪烁体面板的制作方法，其特征在于，包括：

提供基底，所述基底包括感光区；

于所述基底的一侧形成闪烁体层，所述闪烁体层以柱状晶体生长，所述闪烁体层位于所述感光区，所述闪烁体层包括第一部和位于所述第一部外围的第二部，所述第二部的柱状晶体的高度小于所述第一部的柱状晶体的高度；

于所述闪烁体层的外围形成侧围坝；

于所述闪烁体层远离所述基底的一侧形成透明阻水层，所述透明阻水层在所述基底上的正投影与所述闪烁体层在所