CN109752883B 制作具有连续变化的取向方向的光取向层的方法 （香港科技大学）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN109752883B(45)授权公告日2022.08.09

(21)申请号201811079500.3

(22)申请日2018.09.17

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN109752883A

(43)申请公布日2019.05.14

(30)优先权数据

62/606,3402017.09.20US

(73)专利权人香港科技大学

地址中国香港九龙清水湾

(72)发明人蒙翠玲郑文俊潘苏邓树端郭海成

(74)专利代理机构北京瑞恒信达知识产权代理事务所(普通合伙)11382

专利代理师曹津燕窦亚利

(51)Int.CI.

G02F1/1337(2006.01)

G02F1/137(2006.01)

GO2F1/13363(2006.01)

GO2F1/1335(2006.01)

E06B9/24(2006.01)

(56)对比文件

CN102455522A,2012.05.16

CN103364863A,2013.10.23

审查员桑青

权利要求书4页说明书8页附图10页

(54)发明名称

10制作具有连续变化的取向方向的光取向层的方法

10

(57)摘要

CN109752883B本发明公开了一种用于机械控制透光度可变窗口的连续变化轴偏光片及延迟片的形成方法，其中用于制作具有连续变化的取向方向的光取向层的方法，方法包括以下步骤：在基片上涂覆光取向材料；将所述基片放置在线性移动装置上；和将基片的涂覆有光取向材料的一侧曝光在光源下，其中光源发出的光线穿过偏光片照射到

CN109752883B

CN109752883B权利要求书1/4页

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1.一种用于制作具有连续变化的取向方向的光取向层的方法，所述方法包括以下步骤：

在基片上涂覆光取向材料；

将所述基片放置在线性移动装置上；和

将所述基片的涂覆有光取向材料的一侧曝光在光源下，其中所述光源发出的光线穿过偏光片照射到所述基片上涂覆的光取向材料上，以在所述光取向材料上形成具有图案的光取向层，

其中，所述偏光片在平行于所述基片所在的平面内旋转，以使入射曝光光线具有连续变化的偏振方向，

其中，所述光线的偏振方向在基片上被逐行地调制，

其中，当所述偏光片旋转180度时，所述基片移动的距离为预定长度的一个节距(P)。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述基片为透明玻璃或塑料板。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述基片具有卷状形状。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，在所述光源与所述基片之间设置具有狭缝的透光片，并且所述狭缝的长度方向与所述基片的移动方向垂直。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述基片的移动速度(v)、狭缝的面积、预定节距

(P)以及基片曝光量、光照量具有以下关系：

(1)

(2)。

6.根据权利要求4所述的方法，其中，所述透光片位于所述偏光片的上方或下方。

7.一种用于制作具有连续变化的取向方向的光取向层的方法，所述方法包括以下步骤：

在基片上涂覆光取向材料；

将所述基片放置在线性移动装置上；和

将所述基片的涂覆有光取向材料的一侧曝光在光源下，其中所述光源发出的光线穿过偏光片照射到所述基片上涂覆的光取向材料上，以在所述光取向材料上形成具有图案的光取向层，

其中，所述偏光片为线性偏光片，并且在所述线性偏光片与所述基片之间设置有连续轴变化半波延迟片，以使所述光源发出的光线依次穿过所述线性偏光片和所述半波延迟片后照射到所述基片，

其中，所述光线的偏振方向在基板上被逐行地调制，

其中，光取向层的节距(P)与连续轴变化的半波延迟片的节距的1/2相关联。

8.一种用于制作具有连续变化的取向方向的光取向层的方法，所述方法包括以下步骤：

在基片上涂覆光取向材料；

将所述基片放置在线性移动装置上；和

CN109752883B权利要求书2/4页

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将所述基片的涂覆有光取向材料的一侧曝光在光源下，其中所述光源发出的光线穿过偏光片照射到所述基片上涂覆的光取向材料上，以在所述光取向材料上形成具有图案的光取向层，

其中，所述偏光片为线性偏光片，并且在所述线性偏光片与所述基片之