宣贯培训(2026年)《GBT 16879-1997掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则》.pptxVIP

《GB/T16879-1997掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则》(2026年)宣贯培训

目录一、二、三、四、五、六、七、八、九、十、一、专家(2026年)深度解析：GB/T16879-1997标准为何是光刻工艺与半导体制造精度的基石与未来十年发展的核心纲领？（一）标准出台的历史背景与全球半导体产业精密计量标准化进程的必然关联本标准的制定源于上世纪90年代中国半导体产业迫切需求与国际接轨。当时，全球半导体制造向亚微米迈进，掩模曝光作为光刻核心环节，其系统性能的量化评价成为行业瓶颈。该标准首次在国内系统性地建立了掩模曝光系统精密度与准确度的统一表示框架，填补了国内空白，是其成为