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《微机电系统（MEMS）偏转镜重复定位精度测量方法》标准立项与发展报告

EnglishTitle:DevelopmentReportontheStandardizationProject:MeasurementMethodforRepeatabilityofMEMSDeflectionMirrors

摘要

随着空间激光通信、激光雷达（LiDAR）、精密光学传感等前沿技术的迅猛发展，微机电系统（MEMS）偏转镜作为实现光束快速、精确偏转的“核心执行器”，其性能直接决定了整个系统的技术上限。其中，重复定位精度是衡量MEMS偏转镜性能最关键的动态指标之一，它直接影响激光通信的建链速度与稳定性、LiDAR的点云质量与分辨率、以及光学扫描的精确性与可靠性。然而，当前国内外在MEMS偏转镜重复定位精度的测量方法上缺乏统一、规范的技术标准，导致产业链上下游在研发对标、产品测试、质量评估和采购验收等环节存在技术壁垒和沟通障碍，严重制约了我国在高性能MEMS光学器件领域的自主创新与产业化进程。

本报告旨在阐述《微机电系统（MEMS）偏转镜重复定位精度测量方法》标准立项的背景、核心内容与战略意义。报告首先分析了标准制定的紧迫性与行业需求，明确了标准规范的范围与主要技术内容，包括术语定义、测试环境要求、驱动信号规范、光学测量原理、数据处理算法及不确定度评估等。报告重点介绍了主导本标准修订工作的核心企事业单位——中国电子科技集团公司某研究所，其在MEMS技术领域的深厚积累与贡献。最后，报告总结了本标准对促进产业技术升级、保障产品质量、引导创新方向的重要作用，并展望了其在构建完整MEMS光学器件标准体系中的基础性地位及未来在更广泛光电系统中的应用前景。

关键词

微机电系统；MEMS偏转镜；重复定位精度；测量方法；标准化；激光通信；光电测量

Keywords:Micro-Electro-MechanicalSystems(MEMS);MEMSDeflectionMirror;Repeatability;MeasurementMethod;Standardization;LaserCommunication;OptoelectronicMeasurement

正文

一、立项背景与战略意义

微机电系统（MEMS）技术是融合微电子、微机械、光学、材料等多学科的前沿交叉技术。MEMS偏转镜，作为MEMS技术在光学领域的重要应用，通过静电、电磁、压电或热驱动等方式，实现对镜面角度或位置的微纳尺度精确控制。在空间激光通信终端中，它充当“瞳孔”与“方向盘”的双重角色，用于捕获、跟踪和对准远距离的激光光束；在车载激光雷达中，它构成扫描模块的核心，决定了探测视野与点云密度；在医疗内窥镜、工业检测等领域，它也发挥着不可替代的作用。

重复定位精度，定义为在相同条件下，驱动信号多次驱动镜面到达同一指令位置时，实际到达位置的一致性程度。这项指标是衡量MEMS偏转镜动态性能、可靠性与寿命的核心。其重要性体现在：

1.决定系统性能上限：在激光通信中，高的重复定位精度意味着更快的捕获和更稳定的跟踪，直接提升通信速率与链路可靠性（符合《国家民用空间基础设施中长期发展规划》中对高速星间链路的技术要求）。

2.影响产品质量一致性：缺乏统一的测量方法，使得不同厂商、甚至同一厂商不同批次的产品性能难以客观比较与评价，阻碍了规模化生产和供应链管理。

3.制约技术研发与创新：研发人员缺乏公认的测试基准来验证新设计、新工艺或新材料的有效性，使得技术迭代和优化方向不明确。

目前，国际上如IEEE、SEMI等组织虽有一些关于MEMS测试的通用指南，但针对“偏转镜重复定位精度”这一特定参数，尚未形成广泛接受的权威测量标准。国内相关企业、科研院所多采用自建的非标测试系统，导致测量结果差异大、互认度低。因此，制定一项科学、严谨、可操作的《MEMS偏转镜重复定位精度测量方法》国家标准或行业标准，已成为打通产业技术瓶颈、提升我国MEMS光学器件核心竞争力的迫切需求。本标准的制定将填补该领域测量技术标准的空白，为产品的设计、生产、检验和应用提供统一的技术依据，对推动整个产业链的规范化、高质量发展具有奠基性意义。

二、标准范围与主要技术内容

本标准旨在建立一套完整、可靠的MEMS偏转镜重复定位精度测量方法论，确保测量结果的可比性、准确性与复现性。

1.标准范围

本标准规定了用于评估MEMS偏转镜（特指基于微机电技术制造，用于光束偏转的微镜阵列或单镜）重复定位精度的测量方法、测试条件、数据处理流程及不确定度评定指南。本标准适用于准静态工作模式下（通常指频率低于其第一阶谐振频率的扫描或步进工作状态）的MEMS偏转镜。标准中给出的方法对测定MEMS微