CN100559571C 像素结构的制作方法 （友达光电股份有限公司）.docxVIP

[19]中华人民共和国国家知识产权局

[12]发明专利说明书专利号ZL200810134305.6

[51]Int.Cl.

HO1L21/84(2006.01)

HO1L27/12(2006.01)GO2F1/1362(2006.01)

[45]授权公告日2009年11月11日[11]授权公告号CN100559571C

[22]申请日2008.7.22

[21]申请号200810134305.6

[73]专利权人友达光电股份有限公司地址台湾省新竹市

[72]发明人余宙桓江俊毅蔡佳琪童振邦萧祥志张家铭张宗隆赖哲永

周汉唐张峻恺廖达文

[56]参考文献

CN2729758Y2005.9.28

US2007/0117048A12007.5.24CN1721959A2006.1.18

JP2006-73993A2006.3.16

审查员;杨万里

[74]专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司

代理人任默闻

权利要求书3页说明书10页附图11页

[54]发明名称

像素结构的制作方法

[57]摘要

200本发明提供一种像素结构的制作方法，该方法包括下列步骤。首先，于基板上形成栅极以及覆盖