CN101866093B 快门挡片的制作方法 （鸿富锦精密工业（深圳）有限公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN101866093B

(45)授权公告日2013.08.28

(21)申请号200910301687.1

(22)申请日2009.04.20

US4733447,1988.03.29,审查员左文

(73)专利权人鸿富锦精密工业(深圳)有限公司

地址518109广东省深圳市宝安区龙华镇油

松第十工业区东环二路2号

专利权人鸿海精密工业股份有限公司

(72)发明人庄信弘

(51)Int.CI.

GO3B9/08(2006.01)

GO3F7/20(2006.01)

GO3F7/00(2006.01)

(56)对比文件

US3669865,1972.06.13,

US5242540A,1993.09.07,

权利要求书1页说明书4页附图2页

(54)发明名称

快门挡片的制作方法

(57)摘要

CN101869093B一种制作快门挡片的方法，包括：提供铍铜基板，所述铍铜基板具有相对的第一表面和第二表面；在第一表面形成第一光阻层，在第二表面形成第二光阻层；对第一光阻层和第二光阻层进行曝光及显影，以使第一光阻层形成与快门挡片形状相对应的多个第一剩余光阻，使第二光阻层形成与快门挡片形状相对应的多个第二剩余光阻，并且每个第一剩余光阻均与一个第二剩余光阻相对应；采用氯化铜的酸性溶液对所述铍铜基板进行蚀刻，从而得到多个分离的快门挡片结构，每个快门档片结构均包括一个第一剩余光阻、一个第二剩余光阻以及一个位于第一剩余光阻和第二剩余光阻之间的快门档片；去除每个快门挡片结构

CN101869093B

CN101866093B权利要求书1/1页

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1.一种制作快门挡片的方法，包括：

提供铍铜基板，所述铍铜基板具有相对的第一表面和第二表面；

在所述第一表面形成第一光阻层，在所述第二表面形成第二光阻层；对第一光阻层和第二光阻层进行曝光及显影，以使第一光阻层形成与快门挡片形状相对应的多个第一剩余光阻，使第二光阻层形成与快门挡片形状相对应的多个第二剩余光阻，并且每个第一剩余光阻均与一个第二剩余光阻相对应；

采用氯化铜的酸性溶液对所述铍铜基板进行蚀刻，从而得到多个分离的快门挡片结构，每个快门挡片结构均包括一个第一剩余光阻、一个第二剩余光阻以及一个位于第一剩余光阻和第二剩余光阻之间的快门挡片；和

去除每个快门挡片结构的第一剩余光阻及第二剩余光阻，得到多个快门挡片。

2.如权利要求1所述的快门挡片的制作方法，其特征在于，所述铍铜基板的第一表面与第二表面的间距为10微米至100微米。

3.如权利要求1所述的快门挡片的制作方法，其特征在于，所述铍铜基板的第一表面与第二表面的间距为50微米。

4.如权利要求1所述的快门挡片的制作方法，其特征在于，在形成第一光阻层与第二光阻层之前，还包括对所述第一表面和第二表面进行清洗处理的步骤。

5.如权利要求4所述的快门挡片的制作方法，其特征在于，在对第一表面和第二表面进行清洗处理之后，在形成第一光阻层与第二光阻层之前，还包括在第一表面和第二表面涂布六甲基二硅胺的步骤。

6.如权利要求1所述的快门挡片的制作方法，其特征在于，在对第一光阻层与第二光阻层进行曝光之前，还包括对第一光阻层与第二光阻层进行第一次烘烤的步骤，以去除第一光阻层和第二光阻层中的溶剂。

7.如权利要求6所述的快门挡片的制作方法，其特征在于，在对所述第一光阻层与第二光阻层进行显影之后，在对铍铜基板进行蚀刻之前，还包括对第一剩余光阻和第二剩余光阻进行第二次烘烤的步骤，以进一步去除第一剩余光阻和第二剩余光阻中的溶剂。

8.如权利要求1所述的快门挡片的制作方法，其特征在于，所述第一光阻层和所述第二光阻层表面上均平行设置有光罩，所述光罩包括透光区域及多个非透光区域，每个非透光区域的形状与快门挡片的形状相同，多个非透光区域相互间隔设置，所述透光区域为光罩中除非透光区域之外的区域，所述透光区域用于在曝光时透过光线，所述非透光区域用于在曝光时避免光线透过。

9.如权利要求1所述的快门挡片的制作方法，其特征在于，所述第一光阻层和所述第二光阻层表面上均平行设置有光罩，所述光罩包括非透光区域及多个透光区域，每个透光区域的形状与快门挡片的形状相同，多个透光区域相互间隔设置，所述非透光区域为光罩中除透光区域之外的区域，所述