CN101844272A 采用激光干涉光刻技术制作自清洁表面结构的方法和系统 （长春理工大学）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN101844272A

(43)申请公布日2010.09.29

(21)申请号201010101488.9

(22)申请日2010.01.27

(71)申请人长春理工大学

地址130022吉林省长春市卫星路7089号

申请人中国科学院光电技术研究所

(72)发明人王作斌张锦宋正勋翁占坤徐佳刘国强

(51)Int.CI.

B23K26/00(2006.01)

GO3F7/20(2006.01)

权利要求书1页说明书4页附图3页

(54)发明名称

采用激光干涉光刻技术制作自清洁表面结构的方法和系统

(57)摘要

CN101844272A6本发明涉及一种采用激光干涉光刻技术制作自清洁表面结构的方法及系统，其特征是用激光干涉光刻系统，将多个相干激光束组合，对干涉场内的光强度分布进行强弱调制，用调制后重新分布的激光能量烧蚀光件材料表面，在大面积范围内产生微米或纳米级密集的柱形或锥形浮雕结构，从而获得超疏水膜，极大地降低粘滞现象，有利于材料表面附着物如灰尘及液体等脱离材料表面，形成自清洁功能，用该方法在材料表面产生的自清洁微细结构，由于没有外来材料，更稳定耐用，并且通过调整干涉光刻系统入射角可以连续

CN101844272A

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CN101844272A权利要求书1/1页

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1.一种采用激光干涉光刻技术制作自清洁表面结构的方法，其特征在于：使用一个多光束激光干涉光刻系统，将多个相干激光束组合，对干涉场内的光强度分布进行强弱调制，用调制后重新分布的激光能量烧蚀被加工材料表面，在大面积范围内形成微米或纳米级密集的柱形或锥形浮雕结构，形成自清洁结构，从而获得超疏水膜，降低粘滞现象，有利于附着物脱离材料表面。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于也可以使用特定干涉图案直接大面积曝光涂覆有光敏材料的材料表面，然后刻蚀形成材料表面的自清洁结构。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征也在于：被曝光或烧蚀的基片材料表面是平面、非平面或任意不规则曲面。

4.根据权利要求1-3任一项所述的方法，也可以使用二光束或者三光束干涉条纹图案辅助两次曝光被加工材料表面，制成自清洁结构，在第一次曝光的基础上，将吸附基片材料的工件台或者将干涉光学系统以预先设定的角度旋转，使干涉条纹图案与第一次曝光的图案成预先设定的角度，进行第二次曝光，利用两次干涉图案的强度叠加对基片材料表面进行烧蚀，以更简单灵活的方式产生预期的表面自清洁浮雕结构。

5.根据权利要求1-4任一项所述的方法，在满足光能量阈值允许范围的基础上扩束后，结合移动基片工件台或者干涉光学系统，用多光束干涉图案扫描曝光基片或材料表面，形成超大面积微纳结构自清洁表面。

6.根据权利要求1-5任一项所述的方法采用的自清洁表面自清洁结构的多光束激光干涉光刻系统，其特征在于：该系统由激光器，扩束器，分束器，反射镜，偏振片及上述光学元器件装置的夹持与调节机构所组成，通过变换光学器件的相对摆放位置，改变照射到基片材料表面的相干光束的入射角，从而调整被加工材料表面的微细浮雕结构的参数。

7.根据权利要求6所述的系统，该系统的光刻特征尺寸通过用线位移或角位移控制系统改变入射光的夹角以实现从几纳米到几百微米可调。

8.根据权利要求7所述的系统，通过光学移相或机械位移样品，然后重复曝光或多次曝光插补以实现高密度微纳米自清洁结构，从而形成高密度自清洁结构。

CN101844272A说明书1/4页

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采用激光干涉光刻技术制作自清洁表面结构的方法和系统

技术领域

[0001]本发明涉及一种采用激光干涉光刻技术制作材料自清洁表面结构的方法和系统，属于对仿生自清洁表面结构制备技术的改进。

技术背景

[0002]目前建筑上常被采用的耐沾污方法之一是选用低表面能的材料，涂覆在建筑物表面，污染物就很难稳定附着在漆膜表面。一些自清洁钢化玻璃也采用TiO?复合溶液喷涂法。但是由于这些自清洁膜的材料与基体材料的成分不同，其不同的化学和物理性质将导致其附着力和耐久性受限。并且在钢化玻璃的制造过程中经过不同的温度处