CN107768394A 一种图像传感器及其制作方法 (上海集成电路研发中心有限公司).docxVIP

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CN107768394A 一种图像传感器及其制作方法 (上海集成电路研发中心有限公司).docx

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN107768394A

(43)申请公布日2018.03.06

(21)申请号201711038176.6

(22)申请日2017.10.30

(71)申请人上海集成电路研发中心有限公司地址201210上海市浦东新区张江高斯路

497号

申请人成都微光集电科技有限公司

(72)发明人杨冰周伟肖慧敏

(74)专利代理机构上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31275

代理人吴世华陈慧弘

(51)Int.CI.

HO1L27/146(2006.01)

权利要求书1页说明书4页附图4页

(54)发明名称

一种图像传感器及其制作方法

(57)摘要

CN107768394A8本发明公开了一种图像传感器,从下往上依次包括:衬底、晶体管、金属连线、凹槽和微透镜,还包括填充在晶体管、金属连线和凹槽之间的层间介质;镶嵌在层间介质顶端的凹槽数量大于等于4,且每个凹槽被层间介质隔离开,所述凹槽包括白色像素凹槽、红色像素凹槽、绿色像素凹槽和蓝色像素凹槽,所述白色像素凹槽中填充全透光薄膜,其余凹槽中填充量子点薄膜;所述微透镜覆盖在凹槽上方,呈球形凸状结构,并和凹槽一一对应。本发明提供的一种图像传感器利用量子点薄膜可自身发光的性质,通过制备不同直径大小的量子点薄膜,发出红、绿、蓝三种基色,并采用了

CN107768394A

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CN107768394A权利要求书1/1页

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1.一种图像传感器,其特征在于,从下往上依次包括:衬底、晶体管、金属连线、凹槽和微透镜,还包括填充在晶体管、金属连线和凹槽之间的层间介质;所述凹槽镶嵌在层间介质顶端,其数量大于等于4,且每个凹槽被层间介质隔离开,所述凹槽包括白色像素凹槽、红色像素凹槽、绿色像素凹槽和蓝色像素凹槽,且每个颜色的像素凹槽数量不少于一个,所述白色像素凹槽中填充全透光薄膜,其余凹槽中填充量子点薄膜,一个凹槽中的量子点薄膜由直径相同的量子点组成,且位于不同凹槽中的量子点的直径不完全相同;所述微透镜覆盖在凹槽上方,呈球形凸状结构,并和凹槽一一对应。

2.根据权利要求1所述的一种图像传感器,其特征在于,所述全透光薄膜为热硬化树脂组合物或光硬化树脂组合物。

3.根据权利要求1所述的一种图像传感器,其特征在于,所述量子点薄膜包括能够显示蓝光的蓝光量子点薄膜、能够显示绿光的绿光量子点薄膜和能够显示红光的红光量子点薄膜,分别填充在蓝色像素凹槽、绿色像素凹槽和红色像素凹槽中。

4.根据权利要求3所述的一种图像传感器,其特征在于,每个凹槽中的量子点薄膜或全透光薄膜具有相同的厚度。

5.根据权利要求3所述的一种图像传感器,其特征在于,所述白色像素凹槽、红色像素凹槽、绿色像素凹槽和蓝色像素凹槽按照WRGB阵列排布。

6.根据权利要求3所述的一种图像传感器,其特征在于,所述蓝光量子点薄膜中的量子点直径为2nm。

7.根据权利要求3所述的一种图像传感器,其特征在于,所述绿光量子点薄膜中的量子点直径为3nm。

8.根据权利要求3所述的一种图像传感器,其特征在于,所述红光量子点薄膜中的量子点直径为8nm。

9.一种图像传感器的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:

S01:在衬底上形成晶体管;

SO2:在晶体管周围及其上方形成层间介质,并在层间介质中填充金属连线;

S03:在金属连线上方制备镶嵌在层间介质顶端的凹槽,所述凹槽的数量大于等于4,且每个凹槽被层间介质隔离开;

S04:将全透光薄膜填充在白色像素凹槽中;

S05:制备直径不完全相同的量子点薄膜,在剩余凹槽中填充量子点薄膜,且一个凹槽中的量子点薄膜由直径相同的量子点组成,位于不同凹槽中的量子点的直径不完全相同;

S06:在每个凹槽上方制作球形凸状结构的微透镜,形成图像传感器。

10.根据权利要求9所述的一种图像传感器的制作方法,其特征在于,步骤S04中量子点薄膜的制作方法为金属有机合成法、水相合成法、连续离子层吸附反应法、微乳液法、溶胶-凝胶法、溶剂热法以及共沉淀法中的一种。

CN107768394A说明书1/4页

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一种图像传感器及其制作方法

技术领域

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