CN104101950B 一种平面光波导的制作方法 （四川飞阳科技有限公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利

(45)授权

(10)授权公告号CN104101950B公告日2017.08.25

(21)申请号201410369687.6

(22)申请日2014.07.30

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN104101950A

(43)申请公布日2014.10.15

(73)专利权人四川飞阳科技有限公司

地址610209四川省成都市双流县西南航

空港经济开发区长城路一段185号

(72)发明人冯春蓉向舟翊李朝阳

(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限公司11227

代理人王宝筠

(51)Int.CI.

GO2B6/136(2006.01)

(56)对比文件

CN103698905A,2014.04.02,

JP特开平11-194222A,1999.07.21,TW201014482,2010.04.01,

CN103760638A,2014.04.30,审查员张中青

权利要求书1页说明书4页附图5页

(54)发明名称

一种平面光波导的制作方法

(57)摘要

CN104101950B本发明公开了一种平面光波导的制作方法，包括：在衬底表面形成芯层；在所述芯层表面形成金属层；在所述金属层表面形成光刻胶层，并图案化所述光刻胶层；将所述衬底水平放置在刻蚀槽内，以图案化后的光刻胶层为掩膜对所述金属层进行刻蚀，其中，所述衬底设置有所述金属层的表面朝上放置，所述金属层浸没在所述刻蚀槽内的金属刻蚀试剂内；判断对所述金属层的刻蚀是否完成，当所述刻蚀完成后，去除图案化后的光刻胶层，以刻蚀后的金属层为掩膜对所述芯层进行刻蚀，图案化所述芯层，形成预设结构的波导芯层；去除刻蚀后的金属层，在所述波导芯

CN104101950B

SL

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在衬底表西形成芯层

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在所迷芯层表面影成金属层

在所迷金属层表面形成光刻胶层、开图案化所述光刻胶层

将所述衬底水平放置在刻蚀槽内，以斑案化后的光刻胶层为掩膜对所述金属层进行刻蚀

判断对所述金属层的刻蚀是否完成，当所述刻独完成

后、去除图案化后的光刻胶层，以刻蚀后的金属层为

掩膜对所迷芯层进行刻蚀，图案化所述芯层，形成预

设给构的波导芯层

去除刻蚀后的金属层，在所述波导芯层表面形成保护层

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S

CN104101950B权利要求书1/1页

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1.一种平面光波导的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底表面形成芯层；

在所述芯层表面形成金属层；

在所述金属层表面形成光刻胶层，并图案化所述光刻胶层；

将所述衬底水平放置在刻蚀槽内，以图案化后的光刻胶层为掩膜对所述金属层进行刻蚀，其中，所述衬底设置有所述金属层的表面朝上放置，所述金属层浸没在所述刻蚀槽内的金属刻蚀试剂内；

判断对所述金属层的刻蚀是否完成，当所述刻蚀完成后，去除图案化后的光刻胶层，以刻蚀后的金属层为掩膜对所述芯层进行刻蚀，图案化所述芯层，形成预设结构的波导芯层；

通过观察衬底表面金属层的形貌特征判断刻蚀过程的进度，以防止过刻蚀或是刻蚀不足去除刻蚀后的金属层，在所述波导芯层表面形成保护层。

2.根据权利要求1所述的平面光波导的制作方法，其特征在于，所述金属刻蚀试剂液的面高于所述金属层的上表面，且低于所述光刻胶层的上表面。

3.根据权利要求2所述的平面光波导的制作方法，其特征在于，所述判断的方式为：

根据所述金属刻蚀试剂对所述金属层的刻蚀速度与所述金属层的厚度计算完成时间，当达到所述完成时间时，可判断所述刻蚀完成。

4.根据权利要求2所述的平面光波导的制作方法，其特征在于，所述判断的方式为：

观察浸没在所述金属刻蚀试剂内的未被图案化后的光刻胶层遮挡的金属层的颜色由黑变为银白色时，可判断所述刻蚀完成。

5.根据权利要求1所述的平面光波导的制作方法，其特征在于，所述衬底为硅晶圆。

6.根据权利要求5所述的平面光波导的制作方法，其特征在于，所述衬底还包括：设置在所述硅晶圆表面的下包层，所述下包层表面用于形成所述波导芯层。

7.根据权利要求6所述的平面光波导的制作方法，其特征在于，所述下包层为二氧化硅层。

8.根据权利要求1所述的平面光波导的制作方法，其特征在于，所述衬底为石英片。

9.根据权利要求1-8任一项所述的平面光波导的制作方法，其特征在于，所述金属层为金属铬层。

10.根据权利要求1-8任一项所述的平面光波导的制作方法，其