CN104409419B 一种空气侧墙的制作方法 （上海集成电路研发中心有限公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN104409419B

(45)授权公告日2018.01.02

(21)申请号201410652873.0

(22)申请日2014.11.17

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN104409419A

(43)申请公布日2015.03.11

(56)对比文件

US2008/0040697A1,2008.02.14,CN102629627A,2012.08.08,

CN102376647A,2012.03.14,

审查员张斌

(73)专利权人上海集成电路研发中心有限公司

地址201210上海市浦东新区张江高斯路

497号

(72)发明人曾绍海李铭

(74)专利代理机构上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31275

代理人吴世华林彦之

(51)Int.CI.

HO1L21/8238(2006.01)

权利要求书1页说明书4页附图3页

(54)发明名称

(57)摘要本发明公开了一种空气侧墙的制作方法，在

(57)摘要

本发明公开了一种空气侧墙的制作方法，在CMOS器件制作过程中，通过形成释放