CN115106537B 一种基于激光直写的金属微纳3d打印方法 (华中科技大学).docxVIP

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  • 2026-03-20 发布于重庆
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CN115106537B 一种基于激光直写的金属微纳3d打印方法 (华中科技大学).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN115106537B(45)授权公告日2024.02.09

(21)申请号202210693822.7

(22)申请日2022.06.19

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN115106537A

(43)申请公布日2022.09.27

(73)专利权人华中科技大学

地址430074湖北省武汉市洪山区珞喻路

1037号

专利权人湖北光谷实验室

(72)发明人熊伟韩涛邓春三薛松岩胡化策高辉邓磊敏

(74)专利代理机构武汉华之喻知识产权代理有限公司42267

专利代理师王世芳梁鹏

(51)Int.CI.

B22F10/25(2021.01)

B22F10/64(2021.01)

B22F1/10(2022.01)

B33Y10/00(2015.01)

B33Y40/20(2020.01)

B33Y70/10(2020.01)

(56)对比文件

CN103249255A,2013.08.14CN105664933A,2016.06.15CN108882541A,2018.11.23CN109279570A,2019.01

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