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稀土掺杂SiCxNy薄膜：制备工艺与性能调控的深度研究

一、引言

1.1研究背景与意义

随着现代科技的飞速发展，新型材料的研究与开发成为推动各领域进步的关键因素。SiC_{x}N_{y}薄膜作为一种重要的无机非金属材料，凭借其独特的物理化学性质，在半导体、光学、机械等众多领域展现出广阔的应用前景。

SiC_{x}N_{y}薄膜具有高硬度、高化学稳定性、良好的热稳定性以及优异的光学性能。其硬度可与金刚石相媲美，在耐磨涂层领域有着重要应用，能够显著提高材料表面的耐磨性和使用寿命，例如在机械零部件的表面防护中，SiC_{x}N_{y}薄膜可以有效减少磨损，提高机械系统的可靠性和效率。在化学稳定性