CN119753601A 单侧交替式双工位晶圆双面镀膜装置及镀膜方法 (无锡尚积半导体科技股份有限公司).pdfVIP

  • 3
  • 0
  • 约2.32万字
  • 约 21页
  • 2026-04-14 发布于重庆
  • 举报

CN119753601A 单侧交替式双工位晶圆双面镀膜装置及镀膜方法 (无锡尚积半导体科技股份有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119753601A

(43)申请公布日2025.04.04

(21)申请号202510171194.XH01J37/32(2006.01)

(22)申请日2025.02.17

(71)申请人无锡尚积半导体科技股份有限公司

地址214000江苏省无锡市新吴区长江南

路35-312号厂房

(72)发明人张超张陈斌丁聪葛青涛

王世宽宋永辉

(74)专利代理机构无锡市兴为专利代理事务所

(特殊普通合伙)32517

专利代理师高敏屠志力

(51)Int.Cl.

C23C14/34(2006.01)

C23C14

您可能关注的文档

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档