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PVD真空镀膜生产线工艺调试技师考试试卷及答案

一、填空题（每题1分，共10分）

1.PVD的中文全称是______。

2.真空镀膜常用真空度单位是托（Torr）或______。

3.溅射镀膜常用惰性气体是______。

4.获得高真空的核心泵是______泵。

5.镀膜时工件表面温度称为______温度。

6.磁控溅射利用______约束电子轨迹。

7.防止大气倒灌的阀门是______阀。

8.PVD主要类型包括蒸发镀膜和______镀膜。

9.膜层关键性能指标有结合力、硬度和______。

10.调整靶电流可改变膜层______速率。

二、单项选择题（每题2分，共20分）

1.不属于PVD的工艺是（）

A.蒸发B.溅射C.CVDD.离子镀

2.磁控溅射靶表面磁场强度一般为（）

A.10-50GsB.100-500GsC.1000-5000GsD.5000+Gs

3.工件预处理不包括（）

A.除油B.除锈C.抛光D.涂漆

4.可直接从大气压抽低真空的泵是（）

A.分子泵B.机械泵C.扩散泵D.离子泵

5.膜层结合力差的非原因是（）

A.表面污染B.基片温度过高C.靶材纯度低D.偏压不足

6.工作气压过高会导致（）

A.沉积速率快B.均匀性下降C.靶材中毒D.真空不稳

7.装饰镀膜常用靶材是（）

A.TiB.AlC.CuD.Ni

8.真空检漏常用方法是（）

A.肥皂水法B.氦质谱