ASTM F1374-22 中文版 半导体超纯水系统内表面洁净度测试的标准规范.docxVIP

ASTMF1374-22中文版半导体超纯水系统内表面洁净度测试的标准规范

1.范围

本标准规范规定了半导体超纯水系统内表面洁净度的测试要求、操作流程、设备规范、结果计算与评定、质量控制及安全准则，适用于半导体行业各类超纯水系统（包括但不限于超纯水制备系统、输送管道、储存储罐、过滤器、阀门、管件、终端用水点及相关组件）内表面的洁净度定性与定量测试。本标准适用于半导体生产用超纯水系统在安装调试后、日常运维中、定期校验时及故障排查后的内表面洁净度检测，涵盖系统内表面的微粒污染、金属离子残留、有机污染物残留、微生物污染四大类污染物的检测，适配半导体器件（尤其是高端芯片、逻辑芯片、功率半导体、化合物半导体）对超纯水系统洁净度的严苛管控需求，为超纯水系统的合规运行、污染防控及半导体产品质量保障提供统一、规范的技术依据。

本标准的测试方法旨在精准量化半导体超纯水系统内表面的污染程度，明确系统内表面洁净度等级，避免因系统内表面污染导致超纯水水质劣化，进而引发半导体芯片表面腐蚀、电路短路、键合失效、器件性能衰减、良率下降等问题，规范超纯水系统内表面洁净度的测试流程，确保测试结果的准确性、重复性和可靠性，为半导体超纯水系统的设计、安装、运维及质量验收提供技术支撑。

本标准不适用于半导体超纯水系统外表面的洁净度测试、超纯水水质本身的检测（相关测试可参考ASTMD5391-21、GB/T11