SEMI F63-21 中文版 半导体加工用超纯水指南.docxVIP

SEMIF63-21中文版半导体加工用超纯水指南

1.前言

本指南依据国际半导体产业协会（SEMI）发布的SEMIF63-21标准，结合半导体行业超纯水应用实践，编制中文版半导体加工用超纯水指南，旨在为半导体制造企业、超纯水制备企业、第三方检测机构及相关技术人员，提供统一、规范、可操作的超纯水质量控制、测试及应用依据，确保半导体加工过程中超纯水质量符合SEMIF63-21标准要求，保障半导体产品性能、良率及可靠性。

SEMIF63-21标准于2021年正式发布实施，全面替代SEMIF63-15版本，是全球半导体行业超纯水质量控制的核心参考标准，其权威性覆盖全球主要半导体生产地区，包括北美、欧洲、亚洲（中国、日本、韩国等），是半导体芯片制造、封装测试等环节超纯水选型、制备、检测及合规核查的核心依据。该标准由SEMI半导体材料与化学品委员会主导制定、修订，起草单位涵盖全球主流半导体制造企业、超纯水设备厂商、检测机构及高校科研院所，充分结合半导体制程技术的发展（如7nm及以下先进制程），优化了超纯水的指标限值、测试方法及质量管控要求，更贴合现代半导体加工对超纯水极高纯度、极低杂质的严苛需求。

超纯水（UltrapureWater，简称UPW）是半导体加工过程中不可或缺的核心基础物料，广泛应用于晶圆清洗、蚀刻、光刻胶显影、薄膜沉积等关键工序，其纯度直接决定半导体芯片的性