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《集成电路工艺原理》实验三 光刻技术.pdfVIP

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  • 2026-04-30 发布于河北
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《集成电路工艺原理》实验三 光刻技术.pdf

    实验三光刻技术

    一、概述

    在集成电路制造工艺中，光刻工艺是其中i项重要工艺。光刻工艺是利用类照相制版

    的原理，在半导体晶片表面的掩膜层上面刻蚀精细图形的表面加工技术。也就是使用可见光

    和紫外光线把电路图案投影印刷〃到覆有感光材料的硅晶片表面，再经过蚀刻工艺去除无用

    部分，所剩就是电路本身了。光刻工艺的流程中有制版、硅片氧化、涂胶、曝光、显影、腐

    蚀、去胶等等。

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