CN119522472A 基板处理方法、半导体装置的制造方法、程序以及基板处理装置 （株式会社国际电气）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119522472A

(43)申请公布日2025.02.25

(21)申请号202280098003.6

(22)申请日2022.09.27

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.08

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2022/0359992022.09.27

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/069767JA2024.04.04

(71)申请人株式会社国际电气地址日本

(72)发明人小川有人

(74)专利代理机构北京银龙知识产权代理有限

公司11243