CN119585857A 基板处理装置和基板处理方法 （东京毅力科创株式会社）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119585857A

(43)申请公布日2025.03.07

(21)申请号202380053950.8

(22)申请日2023.07.14

(30)优先权数据

2022-1207762022.07.28JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.15

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0260532023.07.14

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/024544JA2024.02.01

(71)申请人东京毅力科创株式会社地址日本

(72)发明人高桥和也坂下训康远藤笃史小岛淳也

(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277

专利代理师刘新宇张会华

(51)Int.Cl.

H01L21/31(2006.01)

C23C16/455(2006.01)

权利要求书3页说明书10页附图12页

(54)发明名称

基板处理装置和基板处理方法

(57)摘要

CN119585857A本公开的一形态的基板处理装置具备：处理容器，其收纳排列为多层的多个基板；处理气体供给管，其沿着所述多个基板的排列方向延伸，向所述处理容器内供给处理气体；以及一对非活性气体供给管，其设于沿着所述基板的周