摘要
随着微光夜视技术的发展,电子轰击互补金属氧化物半导体(Electron
BombardmentComplementaryMetalOxideSemiconductor,EBCMOS)因其具备响应速
度快、感光灵敏度高、体积小、增益高等显著优势,成为了国内微光夜视领域发展的
主流方向。目前,国内对EBCMOS的研究主要聚焦于增益和电荷收集效率的提升,
而对其空间分辨率的研究相对较少。然而,空间分辨率作为EBCMOS的一项关键性
能指标,直接影响EBCMOS器件的成像质量
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