摘要
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近年来,射流电沉积被认为能获得硬度提升的镀层而得到系列研究和关注。理论上,
射流强外力的施加一定会对镀层沉积行为产生影响,进而改变镀层结构和性能。然而,
目前射流电沉积只是处于尝试工艺阶段,射流辅助下镀层组织结构和性能的关键影响因
素和规律仍不明晰,缺乏系统研究。本论文基于垂直电沉积,研究了射流作用下直流电
沉积Ni及Ni基(Ni-WC和Ni-AlO)镀层的组织结构和性能变化,及其与其它主要电
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