WB工艺报告;一、IC封装发展趋势;1.4封装密度正愈来愈高
封装密度的提升有三方面:
(1)硅片的封装效率=硅芯片面积/封装所占印制板面积
=Sd/Sp不断提升;
(2)封装的高度不断降低;
(3)引线节距不断缩小;
引线布置从封装的两侧发展到封装的四周,到封装的底面。这么使单位封装体积的硅密度和引线密度都大大提升。;第4页;等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如聚丙烯、聚脂
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