SEMI F109-2023 中文版 12 英寸晶圆制造用超纯水痕量金属控制标准.docxVIP

SEMIF109-2023中文版12英寸晶圆制造用超纯水痕量金属控制标准

标准基础信息

标准编号：SEMIF109-2023

标准中文全称：12英寸晶圆制造用超纯水痕量金属控制标准

标准归口机构：SEMI国际半导体设备与材料协会、SEMIWG-UPW超纯水系统工作组

发布日期：2023年03月15日

实施日期：2023年09月01日

替代版本：替代SEMIF109-2020，针对12英寸晶圆3nm~28nm先进逻辑、存储芯片制程，全面收紧痕量金属离子限值，新增动态瞬时金属峰值管控、末端点用水点位专项管控、管网二次污染溯源三大核心模块

标准适用定位：半导体行业专属强制工艺标准，专为12英寸大尺寸晶圆全制程超纯水系统制定，区别于通用实验室用水ISO3696、通用管道ISO13200标准，聚焦晶圆表面金属吸附、栅极漏电、器件阈值漂移、微观针孔缺陷四大金属污染痛点，是国内及海外12英寸晶圆厂新建、技改、第三方SEMI审厂、客户稽核的硬性准入标准

关联联动标准：水质检测对标JISK0557:2022；管路输送合规对标ISO13200-1:2022；基础水质分级对标ISO3696:1987+Amd1:2023；纯水静电防护对标IEC61340-5-1:2016；在线监测仪器校准对标SEMIF63；洁净施工对标ISO14644-7

2023版核心修订说明：1.将