CN119816925A 基板处理装置、基板处理方法及基板处理系统 （株式会社斯库林集团）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119816925A

(43)申请公布日2025.04.11

(21)申请号202380063036.1

(22)申请日2023.07.24

(30)优先权数据

2022-1355732022.08.29JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.02.28

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0269322023.07.24

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/048121JA2024.03.07

(71)申请人株式会社斯库林集团地址日本京都府

(72)发明人根本脩平

(74)专利代理机构隆天知识产权代理有限公司

72003

专利代理师宋晓宝

(51)Int.Cl.

H01L21/304(2006.01)

H01L21/02(2006.01)

权利要求书3页说明书21页附图17页

(54)发明名称

基板处理装置、基板处理方法及基板处理系

统

(57)摘要

CN119816925A在本发明中，外侧整流构件对通过上密闭构件与下密闭构件之间的气体进行整流并使的沿下密闭构件的外侧面朝下方流通。由此，以包围处理空间的方式，形成有所谓的气幕。并且，在消除环境气体分离空间的形成时，外侧整流构件安装于上密闭构件，且在保持停止于固定位置的