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离子注入设备工程师考试试卷及答案

离子注入设备工程师考试试卷及答案

填空题（共10题，每题1分）

1.离子注入设备中产生离子的核心部件是______。

2.离子注入的剂量单位通常是______。

3.束流强度的常用单位是______。

4.离子注入设备中用于分离不同质荷比离子的部件是______。

5.为减少沟道效应，注入角度一般控制在______度以内。

6.离子注入后需要进行______处理以激活杂质。

7.离子注入设备的真空度要求通常达到______Pa级别。

8.常用的n型掺杂离子除磷外还有______。

9.离子束扫描方式分为静电扫描和______。

10.剂量均匀性的合格标准通常不超过±______%。

单项选择题（共10题，每题2分）

1.下列哪种离子源适合产生高束流离子？（）

A.ECR离子源B.考夫曼离子源C.射频离子源D.潘宁离子源

2.沟道效应产生的主要原因是？（）

A.离子沿晶面方向注入B.离子能量过高C.剂量过大D.真空度不足

3.离子注入设备中加速管的主要作用是？（）

A.分离离子B.提高离子能量C.聚焦束流D.测量束流

4.下列哪种杂质属于p型掺杂剂？（）

A.磷B.砷C.硼D.锑

5.硅晶圆离子注入后的退火温度一般在哪个范围？（）

A.300-500℃B.500-800℃C.800-1100℃D.1100℃以上

6.束流强度测量常用的仪器是？（）

A