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集成电路布图设计保护条例

一、条例的出台背景与立法定位

（一）立法的现实动因

集成电路是现代信息产业的核心基石，小到智能手机、可穿戴设备，大到工业控制系统、航空航天装备，所有数字化产品的运行都离不开集成电路的支撑。而布图设计作为集成电路的核心底层技术，是指集成电路中至少包含一个有源元件的两个以上元件、以及部分或全部互连线路的三维配置，直接决定了芯片的性能、功耗和制造成本，是集成电路设计企业最核心的智力劳动成果。在条例出台之前，我国对布图设计的保护一直存在法律空白：专利制度要求保护的技术方案具备突出的实质性特点与显著进步，但大部分布图设计是基于现有功能单元的优化组合，很难达到专利的创造性标准；著作权制度仅保护思想的表达形式，无法覆盖布图设计承载的功能属性，仅能对二维电路图提供保护，无法约束他人按照相同的三维配置制造芯片。有研究数据显示，条例出台前我国集成电路设计企业的平均维权周期超过2年，维权胜诉率不足30%，大量企业因为维权成本过高选择放弃追责，抄袭仿冒的成本仅为正版研发成本的几十分之一，严重打击了企业的研发投入意愿（国家知识产权局知识产权发展研究中心，2021）。正是在这样的产业背景下，专门性的布图设计保护条例应运而生，填补了半导体领域知识产权保护的规则缺口。

（二）条例的立法定位

《集成电路布图设计保护条例》是我国知识产权法律体系中针对特定技术领域的专门立法，属于与专利法、著作