半导体超纯水系统数字化与智能化设计指南（网传 SEMI F220-0225 中文版工程稿）.docxVIP

半导体超纯水系统数字化与智能化设计指南（网传SEMIF220-0225中文版工程稿）

1.前言

本指南面向半导体晶圆工厂超纯水（UPW）系统数字化、智能化整体架构设计、传感器部署、数据采集、网络通信、数字孪生、智能预警、自动控制、系统信息安全、交付验证与运维体系。适用于逻辑、存储Fab，覆盖成熟制程与3nm/2nmEUV先进制程超纯水制备与分配管网。

配套参考SEMI标准：SEMIF57、SEMIF61、SEMIF63、SEMIE5（SECS-II）、SEMIE37（HSMS）；配套ASTMD5127。

本指南目标：在保障超纯水水质稳定前提下，建立全链路数字化底座，实现水质故障提前预警、设备健康预测、能耗智能优化、故障自动隔离、数据可追溯，支撑EUV产线良率溯源。

2.第1章范围

2.11.1适用范围

适用于新建、改扩建半导体Fab超纯水全系统数字化设计：原水预处理、双级RO、UV氧化、EDI、膜脱气、抛光混床、终端超滤、UPW循环分配管网、POU使用点、CIP系统的传感器、自控系统、数据平台、数字孪生、报警联锁、数据安全。产水规模：5~500m3/h晶圆厂UPW系统。

2.21.2不适用范围

实验室小型纯水装置、冷却水系统、废水处理系统；本指南不替代SEMIF61/F63水质硬件与材料规范，所有智