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2017-09-18 发布于安徽
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第卷第期液晶与显示，２６５Ｖｏｌ．２６Ｎｏ．５　　　　　年月，２０１１１０ＣｈｉｎｅｓｅＪｏｕｒｎａｌｏｆＬｉｕｉｄＣｒｓｔａｌｓａｎｄＤｉｓｌａｓＯｃｔ．２０１１ｑｙｐｙ文章编号：（）１００７２７８０２０１１０５０６１２０４未确认犕狌狉犪分析及改善对策，，１２１２２徐伟，彭毅雯，肖光辉　（清华大学电子工程系，北京，：；１．１０００８４Ｅｍａｉｌｘｕｗｅｉｂｏｅ．ｃｏｍ．ｃｎ　＠２．北京京东方光电科技有限公司，北京１００１７６）　摘要：未确认Ｍｕｒａ是一种能够影响ＴＦＴＬＣＤ画面品质的不良。文章对未确认Ｍｕｒａ不良进行了详细的　分析，认为扇形区域出现有源层残留是导致未确认Ｍｕｒａ不良发生的原因，介绍了一种通过变更曝光工艺条件来解决此种不良的方法，并通过试验论证了此方法的量产可行性。关键词：未确认Ｍｕｒａ；扇形区域；有源层残留；曝光工艺条件；　　中图分类号：文献标识码：：／ＴＮ１４１．９Ａ犇犗犐１０．３７８８ＹＪＹＸ０６１２　　　　　　犃狀犪犾狊犻狊犪狀犱犐犿狉狅狏犲犿犲狀狋狅犳犝狀犽狀狅狑狀犕狌狉犪狔狆，，１２１２２，，ＸＵＷｅｉＰＥＮＧＹｉｗｅｎＸＩＡＯＧｕａｎｈｕｉｇ（，，，１．犇犲犪狉狋犿犲狀狋狅犈犾犲犮狋狉狅狀犻犮犈狀犻狀犲犲狉犻狀犜狊犻狀犺狌犪犝狀犻狏犲狉狊犻狋犅犲犻犻狀１０００８４狆犳犵犵犵狔犼犵　，：；犆犺犻狀犪犈犿犪犻犾狓狌狑犲犻犫狅犲．犮狅犿．犮狀