离子束增强沉积CrN膜层及其微动摩擦学性能研究.pdfVIP

第26 卷 　第3期 材　料　热　处　理　学　报 Vol . 2 6 　No . 3 2 0 0 5 年 　6 月 TRANSACTIONS OF MATERIALS AND HEAT TREATMENT June 2 0 0 5 离子束增强沉积 Cr N 膜层及其微动摩擦学性能研究 唐　宾 , 　李咏梅 , 　秦　林 , 　吴培强 (太原理工大学表面工程研究所 , 山西 太原 　030024) 摘 　要 : 以不同氮离子辅助轰击能量制备CrN 膜层 ,利用纳米压入仪及显微硬度计分别测试单晶 Si 片 上膜层的硬度及断裂韧度 K1C ,使用 XRD 、XPS 及 EPMA 分析离子轰击能量对镀层组织结构的影响。结 果表明 ,采用能量较低的氮离子轰击得到的涂层 , 由于金属Cr 的存在 ,涂层硬度虽有所降低 ,但断裂韧 度 K1C数值较高。选择较低的 4keV 辅助轰击能量 ,在 M2 高速钢基体上沉积 CrN 涂层 ,膜层在空气介 质中表现出优异的耐磨减摩特性。但在水介质条件下 , 由于膜层接触区域的去钝化再钝化使腐蚀和 磨损相互加速 ,导致 CrN 膜层摩擦系数 ,尤其是磨损量明显高于基材。 关键词 : 离子束增强沉积 ; 　CrN ; 　组织结构 ; 　微动摩擦学性能 ( ) 中图分类号: TG174444 ;TG1155 ;O484 　　文献标识码 : A 　　文章编号 : 2005 　　沉积温度低 ,膜基体结合强度高等优点 ,使离子 的 Cr 粉 , 真空热压成形 , 靶的尺寸为 Φ120mm × ( ) 束增强沉积技术 IBED 的应用领域不断扩大。用 20mm 。 IBED 技术制备的 CrN 薄膜热稳定性好、耐磨和耐蚀 , 镀膜设备为 MIB850 型多离子束溅射镀膜和离 在金属切削工具 ,尤其是在非铁金属切削工具上更取 子注入机。试验过程中 ,表面 Cr 原子沉积速率恒定 15 - 2 - 1 - 2 得较好的应用效果。常规 PVD 离子镀时 ,其相组成 为 25 ×10 atoms ·cm ·s ,氮分压为 10 ×10 ,试 及取向主要受氮分压、工件偏压以及放电电流的影 样表面 Cr 原子N 离子到达比为 69 ,N 离子辅助轰击 响。对 IBED 制备 CrN 镀层而言 ,Sugiyama[1 ] 认为工件 能量分别为 4keV ( E1) , 8keV ( E2) 和 12keV( E3) ,镀膜 时间 240min ,镀膜厚度 15μ 表面N ionsCr atoms 到达比值是控制镀层相组成的一 m 。 ( ) 个最重要的参数 ,为制得单一 CrN 镀层 ,应严格按化