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维普资讯 l一 ． 第 4卷第 5期 光学 精密工程 V0I．4，N0．5 1996年 10月 OPTICSAND PRECISION ENOINEERING October，1996 连续波强激光辐照下光学薄膜元件 损伤机理和热畸变研究 0 蹦 翅 (中国科学院光电技术研究所，双流610209) ^摘要研究了多屡反射膜的光学吸收，得到薄膜界面吸收系数的近似计算式。对 环状强激光辐照下光学薄膜元件的瞬态韫度场和热畸变分布以及损伤机理进行 了详细 的理论分析 ．用泰曼干涉仪实际测量了连续波氧碘激光辐照光学元件的热畸变量．并与 理论计算结果相 比较，理论和实验符合较好。 关键调 彗{莲噬 兰查婆，圭蝼 堡堕坚 l 1 弓 一置 在高功率激光系统中，光学薄膜作为光学元件的组成部分 ，通常是重要而又薄弱的环节， 在高能激光系统中，从激光束的产生、光束变换、扩束、定向、跟踪、瞄准等都离不开光学薄膜， 所 以其性能的好坏对激光系统的影响是非常大的。同时，由于光学薄膜的激光损伤阈值往往要 低于光学元件裸表面 2～4倍 ，因而在激光器中薄膜被破坏的伺胚限制了激光器功率的进一步 提高。因此 ，光学薄膜的抗激光强度是激光系统设计的重要依据和最大限制 ，改进薄膜性能，提 高其破坏阈值就有更重要的实际意义 本文研究了多层反射膜的光学吸收和在环状强激光辐照下的光学薄膜元件的瞬态温度场 和热畸变分布，并对薄膜的损伤机理进行了探讨，通过实验验证了理论分析是可靠的。 2 多层反射膜的光学吸收 镀膜材料和镀膜工艺使多屡膜存在吸收和欹射 吸收和散射可 以发生在膜体 内，也可发生 在膜与膜界面和膜与基片界面上。实验表 明，吸收主要发生在膜与膜界面和膜与基片之 问的界 面上 。对标准四分之一波长膜堆，各膜层之 问的界面吸收系效为 ： = {一R～ c：Ⅳ一sz t{鼍t鼍 ×{·[t—t ]t )。 (1) 啦稿 日期 l E年 B月 s日 维普资讯 光学 精密工程 4卷 式中 为均方根表面粗糙度 (^)，R为薄膜反射率 ， 为激光波长 (^)，N 为膜堆数 ， 为高折射率膜层折射率 ， 为低折射率膜层折射率。对于介质基板 一 一 。对于金属基 片和准介质基片， 为金属基片折射率 ，t金属基片的消光系数。 { ([]+[]。)+L= 一sn)) tan = nh 一 一 ， 一 。 3 环状光束辐照下的瞬态温度场 膜对在环状光束辐照下 ，在半径方 向上大于外环半径 R 小于平板光学元件外半径 飓 区 域内的温度分布为 “： 一 cc + c + 盟 H {矾… 等 +