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第 23 卷 第 4 期 中 国 稀 土 学 报 2005 年 8 月
Vol . 23 №. 4 JOURNAL OF THE CHINESE RARE EARTH SOCIETY Aug. 2005
气氛氧压对 PLD 法生长 Nd ∶LuVO4 薄膜的性能影响
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王晓霞 , 李红霞 , 张怀金 , 王继扬 , 沈明荣 , 方 亮 , 宁兆元
( 1. 山东大学晶体材料国家重点实验室 , 山东 济南 250100 ; 2. 苏州大学物理科学与技术学院 , 江苏 苏州
215006)
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摘要 : 采用脉冲激光沉积技术在不同气氛和氧分压下 , 在抛光石英片上生长了一系列 200 面择优取向的 Nd ∶LuVO4 薄膜。利用 X 射线衍射
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XRD 分析了所制备薄膜性能 , 认为成膜较为适宜的气氛为氧气 , 且氧分压为 20 Pa 时所得到的薄膜性能较好。利用原子力显微镜 AFM 观
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察了Nd LuVO∶ 4 薄膜的表面形貌 , 分析了氧分压的存在对薄膜表面质量的影响。利用卢瑟福背散射 RBS 分析了薄膜的组成 , 发现薄膜的成
分组成与靶材的成分较为一致。利用棱镜耦合法测得了该薄膜中每条模所对应的有效折射率为 2. 0044 和 1. 7098 。
关键词 : 脉冲激光沉积 ; Nd LuVO∶ 4 ; 薄膜 ; 氧分压 ; 稀土
( )
中图分类号: O484 文献标识码 : A 文章编号 : 1000 - 4343 2005 04 - 0455 - 04
光波导结构在现代光通信领域具有十分重要 构 , 由于这种晶体具有良好的热导率和优良激光
的用途 , 波导的独特性质使其可以应用在光纤通 性质 , 也是一种有应用前景的激光工作物质。
信和传感、光学仪器、光信息处理以及光计算等方
[1 , 2 ] 1 实 验
面 。近年来关于薄膜构成的平板波导也成为研
( )
究热点。脉冲激光沉积 PLD 薄膜技术是各种制备 Nd ∶LuVO4 薄膜的制备是在苏州大学物理科学
薄膜方法中最简单、使用范围最广、沉积速率最高 (
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